[发明专利]量子点膜及其制备方法

说明书

本申请提供了一种量子点膜，所述量子点膜包括：用于发光的量子点层，所述量子点层包括入光面和出光面；沉积在所述入光面和出光面上的无机镀层，所述无机镀层用于阻隔水氧；设置在所述无机镀层上的有机保护层。基于本申请的的量子点膜厚度较小，有利于背光显示产品的轻薄化设计。

相关申请的交叉引用

本申请要求2017年7月19日提交的题为“量子点膜及其制备方法”的中国专利申请“201710591392.7”的优先权，该申请的全部内容通过引用并入本文中。

技术领域

本申请涉及量子点膜领域，尤其是涉及一种量子点膜及其制备方法。

背景技术

量子点是一种三维尺寸都在1-20纳米内的无机半导体纳米晶，由于其尺寸小于或接近激子玻尔半径，量子点具有激发波长范围宽，粒径可控、半峰宽窄等优点。

现有量子点背光显示技术主要可分为基于量子点玻璃管和量子点膜的两种背光技术。与量子点玻璃管相比，量子点膜更有利于背光显示产品的轻薄化和窄边框设计。现有量子点膜一般包括三层结构，量子点层和位于量子点层入光面和出光面两侧的保护层。保护层一般为具有水氧阻隔能力的PET基材膜，而现有常用量子点膜中PET基材膜的厚度一般大于50微米，导致量子点膜的厚度较大。

发明内容

针对上述技术问题，本申请旨在提供一种量子点膜及其制备方法，以解决量子点膜厚度较大的缺点。

本申请的一方面在于提供一种量子点膜，所述量子点膜包括：用于发光的量子点层，所述量子点层包括入光面和出光面；沉积在所述入光面和出光面上的无机镀层，所述无机镀层用于阻隔水氧；设置在所述无机镀层上的有机保护层。

优选地，所述量子点层包括聚合物基质、均匀分散在所述聚合物基质中的量子点和光散射粒子。

优选地，所述量子点层和所述无机镀层之间设置有一层平滑涂层，所述平滑涂层的表面粗糙度小于10纳米。

优选地，所述无机镀层的厚度在5-400纳米。

优选地，所述无机镀层包括氧化铝、氮化铝、氮氧化铝、氧化钛、氮化钛、氮氧化钛、氧化锆、氮化锆、氮氧化锆、氧化硅、碳化硅、氮氧化硅、石墨烯中的至少一种。

优选地，所属无机镀层的设置方法包括喷射、溅射、蒸镀、真空沉积、等离子增强化学气相沉积或者原子层沉积。

优选地，所述有机保护层的厚度在0.5-20微米。

优选地，有机保护层包括聚硅树脂、聚环氧树脂、聚氨酯、聚碳酸酯、聚氟树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲醛、聚乙烯、聚偏氯乙烯、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚四氟乙烯、聚乙烯醇丁缩醛、聚丙烯、聚酰胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、或聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯丙烯腈树脂、聚哥伦比亚树脂、聚CR-39树脂、聚OZ系列树脂、聚TS-26树脂、聚APO树脂、聚MR树脂、聚MH树脂、聚NAS树脂、聚ADC树脂、聚TOPAS树脂、聚ARTON树脂中至少一种。

本申请的另一方面在于提供一种量子点膜的制备方法，包括如下过程：步骤S1、制备预定厚度的量子点层；步骤S2、在所述量子点层的入光面和出光面上分别沉积一层无机镀层无机镀层；S3、在所述无机镀层的表面设置一层有机保护层，得到所述量子点膜。

优选地，所述步骤S1包括如下过程：在惰性气氛下，将量子点胶液涂布在离型膜上，接着固化量子点胶液，剥离离型膜得到量子点层。

本申请具有以下有益效果：本申请提供了一种水氧阻隔能力好的量子点膜及其制备方法，通过调节无机镀层和有机保护层的厚度可以有效的减小量子点膜的厚度。

附图说明