[发明专利]一种用于制备纳米材料的电化学沉积支架在审
| 申请号： | 201810750796.0 | 申请日： | 2018-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN108842177A | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | 郭秋泉;赵呈春;杨军 | 申请（专利权）人： | 深圳拓扑精膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/04 | 分类号： | C25D11/04 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 郭防;吴元元 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 导电组件 基底 支架底座 前盖板 电化学沉积 纳米材料 支架 制备 多孔膜技术 阳极氧化铝 装配式结构 固定效果 结构稳定 密封性能 有效使用 粘接结构 胶水 电解液 拆装 通孔 零部件 腐蚀 贯穿 | ||
1.一种用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，包括基底(1)、前盖板(2)、支架底座(3)和导电组件(4)，所述基底(1)经前盖板(2)和支架底座(3)固定，所述导电组件(4)设置于支架底座(3)上，所述基底(1)和导电组件(4)连接，所述前盖板(2)上还贯穿开设有通孔A(5)。
2.根据权利要求1所述的用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，所述支架底座(3)上开设有安装槽(6)、阶梯槽(7)和通孔B(8)，所述阶梯槽(7)位于安装槽(6)上部，所述基底(1)设置于安装槽(6)中，所述阶梯槽(7)中还设置有密封圈(9)，所述密封圈(9)一面与基底(1)、阶梯槽(7)底部接触，另一面与前盖板(2)接触，所述通孔B(8)贯穿开设于安装槽(6)中，所述基底(1)经通孔B(8)与导电组件(4)连接。
3.根据权利要求2所述的用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，所述支架底座(3)侧面还一体成型有固定杆(10)，所述支架底座(3)和固定杆(10)上还开设有与通孔B(8)连接的导电线槽(11)，所述导电线槽(11)位于远离前盖板(2)的一侧，所述导电线槽(11)自通孔B(8)处开设至固定杆(10)顶部，所述导电线槽(11)上还设置有背面密封条(12)。
4.根据权利要求3所述的用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，所述导电组件(4)包括导电金属块(13)和导电金属条(14)，所述导电金属块(13)设置于通孔B(8)中，所述导电金属块(13)一面与基底(1)接触，另一面还连接有导电金属条(14)，所述导电金属条(14)设置于导电线槽(11)中。
5.根据权利要求4所述的用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，所述导电组件(4)还包括导电金属垫片(15)，所述导电金属垫片(15)设置于安装槽(6)底部，所述导电金属垫片(15)一面与基底(1)接触，另一面与导电金属块(13)接触。
6.根据权利要求3所述的用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，所述导电组件(4)为导线，所述导线经导电线槽(11)和通孔B(8)与基底(1)连接。
7.根据权利要求5或6所述的用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，所述通孔B(8)开设于安装槽(6)的中心。
8.根据权利要求7所述的用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，还包括固定螺丝(16)，所述前盖板(2)和支架底座(3)经固定螺丝(16)连接。
9.根据权利要求1所述的用于制备纳米材料的电化学沉积支架，其特征在于，所述通孔A(5)远离支架底座(3)的一端开设有倒角。
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