[发明专利]一种含P-O键化合物的聚合物涂覆膜的制备方法

权利要求书

1.一种含P-O键化合物的聚合物涂覆膜的制备方法，其特征在于技术方案由以下步骤组成：在反应釜中，按照体积比（0.1～10）：1混合丙酮和二甲基甲酰胺，制得混合溶液；加入混合溶液重量的0.5～2.5%重量的涂覆剂，超声波振荡1～30 min，制得混合均匀的悬浊液；在悬浊液中加入混合溶液重量的1～5%重量的聚偏氟乙烯-六氟丙烯；再加入混合溶液重量的0.5～2.5%重量的聚甲基丙烯酸甲酯；超声波振荡10～50min；在50～90℃下搅拌8～12h，使反应釜中溶液转变为粘稠液体；将基膜平铺开，用低温等离子体对基膜的一个表面或两个表面各处理1s～5min；将粘稠液体涂覆在经过处理的基膜的表面上，于50～110℃温度区间的任一温度下进行真空干燥或鼓风干燥，制得聚合物涂覆膜；

所述的涂覆剂是三价阳离子、二价阳离子或一价阳离子的磷酸盐；

所述的涂覆剂是含P-O键化合物，依靠含P-O键的化合物与等离子体处理的聚烯烃基膜发生反应，形成与基膜有价键连接的涂覆层；

所述的三价阳离子的磷酸盐是磷酸铝、磷酸钪、磷酸铁、磷酸镓或磷酸钇；

所述的二价阳离子的磷酸盐是磷酸镁、磷酸锌、磷酸钙、磷酸铜或磷酸钡；

所述的一价阳离子的磷酸盐是磷酸银、磷酸锂或磷酸亚铜。

2.根据权利要求1所述的一种含P-O键化合物的聚合物涂覆膜的制备方法，其特征在于所述的真空干燥是在0.1～0.00001atm压力下进行的加热干燥。

3.根据权利要求1所述的一种含P-O键化合物的聚合物涂覆膜的制备方法，其特征在于所述的涂覆剂是粒径在1nm～5μm范围的磷酸盐。

4.根据权利要求1所述的一种含P-O键化合物的聚合物涂覆膜的制备方法，其特征在于所述的聚偏氟乙烯-六氟丙烯是平均分子量在20～280万范围的聚偏氟乙烯-六氟丙烯。

5.根据权利要求1所述的一种含P-O键化合物的聚合物涂覆膜的制备方法，其特征在于所述的聚甲基丙烯酸甲酯是平均分子量在60～160万范围的聚甲基丙烯酸甲酯。

6.根据权利要求1所述的一种含P-O键化合物的聚合物涂覆膜的制备方法，其特征在于所述的基膜是聚丙烯或聚乙烯单层膜、含有聚丙烯层的多层膜或含有聚乙烯层的多层膜。

7.根据权利要求6所述的一种含P-O键化合物的聚合物涂覆膜的制备方法，其特征在于所述的多层膜，其层数在2～10范围内。