[发明专利]一种通过湿度改造减少光罩雾面缺陷的方法

权利要求书

1.一种通过湿度改造减少光罩雾面缺陷的方法，适用于进行光罩的曝光工艺的ArF准分子激光设备，所述ArF准分子激光设备包括用于进行所述曝光工艺的掩膜台和用于在所述曝光工艺过程中向所述掩膜台输送压缩干燥空气的气体管路，其特征在于，所述方法包括：

所述ArF准分子激光设备对位于所述掩膜台上的所述光罩进行所述曝光工艺时，控制所述气体管路中输送至所述掩膜台的所述压缩干燥空气的气体流量符合预设流量策略；

所述预设流量策略为输出方向为朝向所述光罩的图形区域的气体流量为150L/min以及输出方向为朝向所述光罩的薄膜区域的气体流量为80L/min；

所述ArF准分子激光设备还包括：

光罩缓存区，所述光罩缓存区用于缓存用于进行所述曝光工艺的多个所述光罩；

移动单元，所述移动单元用于将所述光罩缓存区中的多个所述光罩逐个移动至所述掩膜台以完成所述曝光工艺。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光罩放置在所述掩膜台上后，所述图形区域朝上，所述薄膜区域朝下。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述气体管路包括：

上管路口，所述上管路口设置于所述光罩的所述图形区域的上方，用于输出所述压缩干燥空气；

下管路口，所述上管路口设置于所述光罩的所述薄膜区域的下方，用于输出所述压缩干燥空气。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述ArF准分子激光设备还包括：

分流管路，所述分流管路连接在所述气体管路，用于分流部分所述压缩干燥空气至所述光罩缓存区。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述ArF准分子激光设备还包括：

分配单元，所述分配单元用于控制分流到所述光罩缓存区所述压缩干燥空气的流量和分流到所述掩膜台的所述压缩干燥空气的流量。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述ArF准分子激光设备还包括：

压缩干燥空气温度控制器，所述压缩干燥空气控制器设置于所述气体管路上，用于控制所述干燥空气的温度。