[发明专利]大尺寸基板曝光机在审

专利信息
申请号: 201810757869.9 申请日: 2018-07-11
公开(公告)号: CN110716391A 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 葛黎黎;杨志勇;朱岳彬 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 11332 北京品源专利代理有限公司 代理人: 胡彬
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 内部支撑 位置调节组件 外部框架 运动台 大尺寸基板 曝光系统 曝光 测量 掩模传输系统 测量系统 框架设置 偏移变形 照明系统 曝光机 结构形变 框架连接 位置不变 系统运动 配置
【权利要求书】:

1.一种大尺寸基板曝光机,包括:曝光系统、测量系统、运动台系统、照明系统和掩模传输系统(703),其特征在于,还包括:

外部框架,安装有所述照明系统和所述掩模传输系统(703);

核心曝光测量框架,设置在所述外部框架内侧,安装有所述曝光系统和所述测量系统;

内部支撑框架,设置在所述外部框架和所述核心曝光测量框架之间,且与所述核心曝光框架连接,安装有所述运动台系统;以及,

位置调节组件,分别与所述核心曝光测量框架和所述内部支撑框架连接,所述位置调节组件被配置为当所述内部支撑框架随所述运动台系统运动发生偏移变形时,所述位置调节组件能够向与所述内部支撑框架的偏移变形方向相同的方向发生结构形变,调节所述运动台系统和所述曝光系统的相对位置不变。

2.根据权利要求1所述的大尺寸基板曝光机,其特征在于,所述位置调节组件至少包括第一连接件(201),第二连接件(202)和第三连接件(203),所述第一连接件(201)、所述第二连接件(202)以及所述第三连接件(203)均包括刚性件(204)和压电陶瓷片(205),所述刚性件(204)上开设有安装槽(206)和多个调节孔(207),所述压电陶瓷片(205)设置在所述安装槽(206)内,多个所述调节孔(207)与所述安装槽(206)相邻设置。

3.根据权利要求2所述的大尺寸基板曝光机,其特征在于,所述第一连接件(201),所述第二连接件(202)和所述第三连接件(203)之间呈三角形布局。

4.根据权利要求2所述的大尺寸基板曝光机,其特征在于,所述位置调节组件还包括:

第一锁紧件(801),包括连接螺栓(804)和第一限位件(805),所述连接螺栓(804)一端设置有螺帽,另一端穿过所述核心曝光测量框架与所述第一连接件(201)的刚性件(204)连接,所述第一连接件(201)的刚性件(204)的上表面设置有限位平面(2041),所述第一限位件(805)一端与所述限位平面(2041)抵接,所述第一限位件(805)的另一端与所述核心曝光测量框架抵接;

第二锁紧件(802),包括连接螺栓(804)和第二限位件(806),所述连接螺栓(804)一端设置有螺帽,另一端穿过所述核心曝光测量框架与所述第二连接件(202)的刚性件(204)连接,所述第二连接件(202)的刚性件(204)的上表面开设有球形限位槽(208),所述第二限位件(806)一端插入所述球形限位槽(208)内,所述第二限位件(806)的另一端与所述核心曝光测量框架抵接;

第三锁紧件(803),包括连接螺栓(804)和第三限位件(807),所述连接螺栓(804)一端设置有螺帽,另一端穿过所述核心曝光测量框架与所述第三连接件(203)的刚性件(204)连接,所述第三连接件(203)的刚性件(204)的上表面开设有V形限位槽(209),所述第三限位件(807)一端插入所述V形限位槽(209)内,所述第三限位件(807)的另一端与所述核心曝光测量框架抵接。

5.根据权利要求4所述的大尺寸基板曝光机,其特征在于,所述第一限位件(805)为平板限位件。

6.根据权利要求4所述的大尺寸基板曝光机,其特征在于,第二限位件(806)和第三限位件(807)均为球头限位件。

7.根据权利要求6所述的大尺寸基板曝光机,其特征在于,所述第一锁紧件(801)、第二锁紧件(802)和第三锁紧件(803)均还包括:柔性件(808),所述柔性件(808)套设在所述连接螺栓(804)上并设置在所述核心曝光测量框架和所述螺帽之间。

8.根据权利要求7所述的大尺寸基板曝光机,其特征在于,所述第一锁紧件(801)、第二锁紧件(802)和第三锁紧件(803)均还包括:垫片(809),所述垫片(809)套设在连接所述螺栓(804)上并设置在所述柔性件(808)和所述连接螺栓(804)之间。

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