[发明专利]大尺寸基板曝光机

说明书

本发明公开了一种大尺寸基板曝光机，包括：曝光系统、测量系统、运动台系统、照明系统、掩模传输系统、外部框架、核心曝光测量框架、内部支撑框架和位置调节组件，外部框架安装有照明系统和掩模传输系统；核心曝光测量框架设置在外部框架内侧，安装有曝光系统和测量系统；内部支撑框架设置在外部框架和核心曝光测量框架之间，安装有运动台系统；位置调节组件分别与核心曝光测量框架和内部支撑框架连接，位置调节组件被配置为当内部支撑框架随运动台系统运动发生偏移变形时，位置调节组件能够向与内部支撑框架的偏移变形方向相同的方向发生结构形变，调节运动台系统和曝光系统的相对位置不变。上述大尺寸基板曝光机能够提高大尺寸基板的曝光精度。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种大尺寸基板曝光机。

背景技术

传统光刻机中玻璃基板的尺寸较小，工件台的运动质量也较小，因此，工件台的运动对曝光机整机的形变影响较小。然而，随着光刻机向大世代发展，玻璃基板尺寸不断增大，使得工件台的移动质量也大幅增加。同时，设备向大世代发展时，产率要求运动台运动速度必须快。工件台移动质量及移动速度的增加导致运动反力也大幅增加，当大吨位工件台大范围快速移动时，由于接口刚度有限，主体框架上支撑的曝光系统、测量系统接口的相对位置会产生变化，会导致投影物镜和掩模台的相对位置发生变化，造成较大的系统误差，严重影响曝光成像质量。因此，急需提供一种能够快速稳定的曝光机，以满足大尺寸基板的曝光需求。

发明内容

本发明的目的在于提出一种大尺寸基板曝光机，能够满足大尺寸基板的曝光需求，确保大尺寸基板曝光精度。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种大尺寸基板曝光机，包括：曝光系统、测量系统、运动台系统、照明系统和掩模传输系统，还包括：

外部框架，安装有照明系统和掩模传输系统；

核心曝光测量框架，设置在外部框架内侧，安装有曝光系统和测量系统；

内部支撑框架，设置在外部框架和核心曝光测量框架之间，且与核心曝光框架连接，安装有运动台系统；以及，

位置调节组件，分别与核心曝光测量框架和内部支撑框架连接，位置调节组件被配置为当内部支撑框架随运动台系统运动发生偏移变形时，位置调节组件能够向与内部支撑框架的偏移变形方向相同的方向发生结构形变，调节运动台系统和曝光系统的相对位置不变。

在其中一个实施例中个，位置调节组件至少包括第一连接件，第二连接件和第三连接件，第一连接件、第二连接件以及第三连接件均包括刚性件和压电陶瓷片，刚性件上开设有安装槽和多个调节孔，压电陶瓷片设置在安装槽内，多个调节孔与安装槽相邻设置。

在其中一个实施例中个，第一连接件，第二连接件和第三连接件之间呈三角形布局。

在其中一个实施例中个，位置调节组件还包括：

第一锁紧件，包括连接螺栓和第一限位件，连接螺栓一端设置有螺帽，另一端穿过核心曝光测量框架与第一连接件的刚性件连接，第一连接件的刚性件的上表面设置有限位平面，第一限位件一端与限位平面抵接，第一限位件的另一端与核心曝光测量框架抵接；

第二锁紧件，包括连接螺栓和第二限位件，连接螺栓一端设置有螺帽，另一端穿过核心曝光测量框架与第二连接件的刚性件连接，第二连接件的刚性件的上表面开设有球形限位槽，第二限位件一端插入球形限位槽内，第二限位件的另一端与核心曝光测量框架抵接；

第三锁紧件，包括连接螺栓和第三限位件，连接螺栓一端设置有螺帽，另一端穿过核心曝光测量框架与第三连接件的刚性件连接，第三连接件的刚性件的上表面开设有V形限位槽，第三限位件一端插入V形限位槽内，第三限位件的另一端与核心曝光测量框架抵接。

在其中一个实施例中，第一限位件为平板限位件。