[发明专利]一种红外光学窗口的制备方法

权利要求书

1.一种红外光学窗口的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、清洗基片并甩干；

步骤2、通过光学镀膜机在基片的底部镀制光学膜；

步骤3、在底部光学膜的表面镀制一层保护膜；

步骤4、采用硬掩膜方法在所述基片顶部做出镀膜区域，镀制光学膜；

步骤5、采用光刻制作出镀制金属膜的环形区域，镀制金属膜。

2.如权利要求1所述的红外光学窗口的制备方法，其特征在于，所述步骤3中采用PECVD方法镀制保护膜。

3.如权利要求1所述的红外光学窗口的制备方法，其特征在于，所述基片为双面抛光基片，其材质包括锗、硅、硒化锌或石英玻璃。

4.如权利要求1所述的红外光学窗口，其特征在于，所述光学膜的材质为Ge、ZnS、CaF、YbF3、SiO中的一种或几种。

5.如权利要求1所述的红外光学窗口，其特征在于，所述金属膜为Ti、Ni、Pt、Cr、Au中的一种或几种。

6.如权利要求1所述的红外光学窗口，其特征在于，所述保护膜为类金刚石薄膜，厚度为10~500nm。

7.如权利要求1所述的红外光学窗口的制备方法，其特征在于，所述基片顶部的光学膜、基片底部的光学膜和保护膜的缺陷点直径均小于10μm。

8.如权利要求7所述的红外光学窗口的制备方法，其特征在于，控制缺陷点的方法包括：提高镀膜材料的纯度、控制成膜速率和通过膜系设计减少光学膜厚度。

9.如权利要求7所述的红外光学窗口的制备方法，其特征在于，所述基片底部的光学膜共1~100层，厚度为0.1~50μm；所述基片顶部的光学膜共1~100层，厚度为0.1~50μm。

10.一种根据权利要求1-9任一所述的红外光学窗口的制备方法制备出的红外光学窗口，其特征在于，所述红外光学窗口包括基片，所述基片的顶部和底部均镀制有光学膜，顶部光学膜的四周镀制金属膜，所述底部光学膜上镀有一层保护膜。