[发明专利]一种红外光学窗口的制备方法

说明书

本发明提供了一种红外光学窗口的制备方法，属于红外成像技术领域。所述红外光学窗口的制备方法包括：清洗基片并甩干；通过光学镀膜机在基片的底部镀制光学膜；在底部光学膜的表面镀制一层保护膜；采用硬掩膜方法在所述基片顶部做出镀膜区域，镀制光学膜；采用光刻制作出镀制金属膜的环形区域，镀制金属膜。该方法制备出的红外光学窗口在满足红外成像所需的透过率的同时，提升了该窗口的抗磨损能力及在恶劣环境下的耐受性。

技术领域

本发明涉及红外成像技术领域，特别涉及一种红外光学窗口的制备方法。

背景技术

红外光学窗口是非制冷红外焦平面探测器系统中不可缺少的部件，主要应用于热成像领域，其要求是红外透过率的同时，滤掉某些杂散光，以达到成像效果清晰。

在某些应用领域对于红外成像的要求越来越高；并且因为大部分时间在野外工作，因此环境中的雨滴、砂粒等颗粒会对窗口表面膜层产生比较大的冲击，其表面需要镀制保护膜以提高其抗雨蚀、砂蚀的能力。

发明内容

本发明的目的在于提供一种红外光学窗口的制备方法，在提高红外成像质量的同时，解决了现有窗口的抗磨损能力不足及在恶劣环境下的耐受性差的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种红外光学窗口的制备方法，包括如下步骤：

步骤1、清洗基片并甩干；

步骤2、通过光学镀膜机在基片的底部镀制光学膜；

步骤3、在底部光学膜的表面镀制一层保护膜；

步骤4、采用硬掩膜方法在所述基片顶部做出镀膜区域，镀制光学膜；

步骤5、采用光刻制作出镀制金属膜的环形区域，镀制金属膜。

可选的，所述步骤3中采用PECVD方法镀制保护膜。

可选的，所述基片为双面抛光基片，其材质包括锗、硅、硒化锌或石英玻璃。

可选的，所述光学膜的材质为Ge、ZnS、CaF、YbF3、SiO中的一种或几种。

可选的，所述金属膜为Ti、Ni、Pt、Cr、Au中的一种或几种。

可选的，所述保护膜为类金刚石薄膜，厚度为10~500nm。

可选的，所述基片顶部的光学膜、基片底部的光学膜和保护膜的缺陷点直径均小于10μm。

可选的，控制缺陷点的方法包括：提高镀膜材料的纯度、控制成膜速率和通过膜系设计减少光学膜厚度。

可选的，所述基片底部的光学膜共1~100层，厚度为0.1~50μm；所述基片顶部的光学膜共1~100层，厚度为0.1~50μm。

本发明还提供了一种根据上述红外光学窗口的制备方法制备出的红外光学窗口，所述红外光学窗口包括基片，所述基片的顶部和底部均镀制有光学膜，顶部光学膜的四周镀制金属膜，所述底部光学膜上镀有一层保护膜。

在本发明中提供了一种红外光学窗口的制备方法，清洗基片并甩干；通过光学镀膜机在基片的底部镀制光学膜；在底部光学膜的表面镀制一层保护膜；采用硬掩膜方法在所述基片顶部做出镀膜区域，镀制光学膜；采用光刻制作出镀制金属膜的环形区域，镀制金属膜。该方法制备出的红外光学窗口，其镀膜缺陷直径小于10μm，具有很高的分辨率和成像质量；在底部光学膜上加镀类金刚石薄膜，提升了该窗口的抗磨损能力及在恶劣环境下的耐受性。

附图说明

图1是本发明实施例一提供的红外光学窗口制备方法的流程示意图；

图2是本发明实施例一提供的红外光学窗口结构示意图。

具体实施方式