[发明专利]使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法

权利要求书

1.一种使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法，包括使用离子束将样品切割成薄片，以及清理薄片表面的非晶层，其特征在于主要步骤如下：

步骤1，先于样品的表面沉积比待测区的边缘宽500nm以上的、厚0.5-2μm的含有机物的保护层，再将样品切割成与保护层宽度相同的微纳米薄片；

步骤2，先将微纳米薄片切割成横截面为待测形貌的柱状，再对柱状的表面依次使用电子束沉积厚50-500nm、离子束沉积厚1-2μm的含有机物的保护层；

步骤3，先使用离子束将表面覆有含有机物保护层的柱状样品沿其横截面切割成50nm-10μm厚的薄片，再使用离子束清理薄片表面的非晶层，制得微、纳米结构样品。

2.根据权利要求1所述的使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法，其特征是于样品的表面沉积含有机物的保护层为使用电子束沉积，或使用离子束沉积。

3.根据权利要求1所述的使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法，其特征是待测形貌为纳米盘形，或纳米多边形，或纳米条带形。

4.根据权利要求1所述的使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法，其特征是在对柱状的表面沉积含有机物的保护层之前，先对其使用离子束清理表面的非晶层。

5.根据权利要求1所述的使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法，其特征是含有机物的保护层为含有机物的铂层，或含有机物的金层，或含有机物的钨层，或含有机物的碳层，或含有机物的硅层。

6.根据权利要求1所述的使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法，其特征是将表面覆有含有机物保护层的柱状样品沿其横截面切割成薄片的过程为，先于柱状样品的表面连同其上覆有的含有机物保护层截面成15μm厚的薄片，再将薄片减薄至50nm-10μm。

7.根据权利要求1所述的使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法，其特征是使用离子束将表面覆有含有机物保护层的柱状样品切割成薄片时的电压为28-32kV。

8.根据权利要求1所述的使用聚焦离子束扫描电镜双束系统制备微、纳米结构样品的方法，其特征是使用离子束清理薄片表面的非晶层时的电压为2-5kV。