[发明专利]基片位置调整方法、存储介质和基片处理系统

权利要求书

1.一种基片位置调整方法，其调整在具有旋转处理装置的基片处理系统中的、旋转式处理时的基片的位置，所述旋转处理装置一边使所述基片旋转一边对该基片实施作为规定的处理的所述旋转式处理，所述基片处理系统还包括为了基片的检查而拍摄该基片的表面的检查装置，所述基片位置调整方法的特征在于，包括：

由所述旋转处理装置实施所述旋转式处理的旋转式处理步骤；

由所述检查装置拍摄被实施了所述旋转式处理的基片的拍摄步骤；

获取预先存储的变化量信息的变化量信息获取步骤，所述变化量信息是使基片从所述旋转处理装置移动至所述检查装置期间该基片的方向发生变化的量的信息；

结果信息获取步骤，基于所述拍摄步骤的拍摄结果，获取沿基片的周向的所述旋转式处理的实施结果的信息作为实施结果信息；和

至少基于所述变化量信息和所述实施结果信息，修正所述旋转式处理时的基片的位置的修正步骤。

2.如权利要求1所述的基片位置调整方法，其特征在于，包括：

以使所述拍摄步骤中的基片的方向成为规定的方向的方式使所述基片旋转的旋转步骤；和

其它变化量信息获取步骤，获取所述旋转步骤中的基片的方向的变化量的信息作为其它变化量信息，

所述修正步骤基于所述变化量信息、所述其它变化量信息和所述实施结果信息，修正所述旋转式处理时的基片的位置。

3.如权利要求2所述的基片位置调整方法，其特征在于：

在所述结果信息获取步骤中，计算在使基片从所述旋转处理装置移动至所述检查装置期间该基片的方向发生变化的量θ1与所述旋转步骤中的基片的方向的变化量θ2之和θe，获取从所述基片的基准位置在所述周向上分别偏离了θe、θe+90°、θe+180°、θe+270°的位置的所述旋转式处理的实施结果的信息作为所述实施结果信息。

4.如权利要求3所述的基片位置调整方法，其特征在于：

包括获取所述基片的基准位置和从该基准位置在所述周向上分别偏离了90°、180°、270°的位置的、所述旋转式处理的实施结果的信息并将该信息输出的步骤。

5.一种可读取的计算机存储介质，其特征在于：

保存有在作为控制基片处理系统的控制部的计算机上工作的程序，以使得所述基片处理系统实施权利要求1～4中任一项所述的基片位置调整方法。

6.一种基片处理系统，其包括一边使基片旋转一边对该基片实施作为规定的处理的旋转式处理的旋转处理装置，所述基片处理系统的特征在于，包括：

为了基片的检查而拍摄该基片的表面的检查装置；和

调整所述旋转式处理时的基片的位置的控制部，

所述控制部控制所述旋转处理装置和所述检查装置，使得由所述旋转处理装置实施所述旋转式处理的旋转式处理步骤、和由所述检查装置拍摄被实施了所述旋转式处理的基片的拍摄步骤实施，并且，

实施以下步骤：

获取预先存储的变化量信息的变化量信息获取步骤，所述变化量信息是使基片从所述旋转处理装置移动至所述检查装置期间该基片的方向发生变化的量的信息；

结果信息获取步骤，基于所述拍摄步骤的拍摄结果，获取沿基片的周向的所述旋转式处理的实施结果的信息作为实施结果信息；和

至少基于所述变化量信息和所述实施结果信息，修正所述旋转式处理时的基片的位置的修正步骤。