[发明专利]用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法

权利要求书

1.一种用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，用于将所述内部离子源的位置调节至达标位置，包括内部离子源及主磁铁，所述内部离子源的支撑件与主磁铁通过法兰进行连接固定，其特征在于，包括以下步骤：

在所述内部离子源的支撑件的尾部法兰处设置用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构，其中所述达标位置在所述位置调节结构的调节位置范围之内；所述位置调节结构包括设于所述尾部法兰的平面调节结构及轴向调节结构，所述平面调节结构用于旋转所述尾部法兰，所述轴向调节结构用于调节所述尾部法兰的轴向距离及轴向角度；

在将所述内部离子源与中心区主磁铁进行装配时，根据引出束流各个参数的要求标准，使用所述位置调节结构对所述内部离子源的位置进行调节；

当所述引出束流的各个参数均达标时，停止对所述内部离子源的位置调节，并计算出此时所述内部离子源所处的位置，将该位置作为所述内部离子源的所述达标位置。

2.根据权利要求1所述的用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，其特征在于，所述根据引出束流各个参数的要求标准，使用所述位置调节结构对所述内部离子源的位置进行调节，具体为：

根据所述引出束流的稳定性标准、发射度标准及亮度标准来对所述内部离子源的位置进行调节，当所述引出束流的所述稳定性标准、所述发射度标准及所述亮度标准均达到其对应的预设标准时，判定所述内部离子源的位置调节至达标位置。

3.根据权利要求1所述的用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，其特征在于，所述平面调节结构为均匀设于所述尾部法兰圆周边缘上的若干个旋转定位孔及与所述旋转定位孔对应的限位柱。

4.根据权利要求1所述的用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，其特征在于，所述轴向调节结构包括设于所述尾部法兰圆周边缘上的若干个轴向调节孔及与所述轴向调节孔对应的调节螺钉。

5.根据权利要求4所述的用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，其特征在于，若干个旋转定位孔和若干个所述轴向调节孔相互之间均匀间隔分布。

6.根据权利要求4所述的用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，其特征在于，每个旋转定位孔的中心点与所述尾部法兰的圆心点的距离均相同，每个所述轴向调节孔的中心点与所述尾部法兰的圆心点的距离均相同。

7.跟进权利要求6所述的用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，包括内部离子源及主磁铁，所述内部离子源的支撑件与主磁铁通过法兰进行连接固定，其特征在于，在所述内部离子源的支撑件的尾部法兰上设有用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构。

8.根据权利要求7所述的用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，其特征在于，所述平面调节结构为均匀设于所述尾部法兰圆周边缘上的若干个旋转定位孔和与所述旋转定位孔对应的限位柱，所述轴向调节结构包括设于所述尾部法兰圆周边缘上的若干个轴向调节孔和与所述轴向调节孔对应的调节螺钉。