[发明专利]用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法

说明书

本发明公开了一种回旋加速器及其内部离子源位置的调节方法，其中该调节方法包括以下步骤：在所述内部离子源的尾部法兰处设置用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构，其中所述达标位置在所述位置调节结构的调节位置范围之内；在将所述内部离子源与中心区主磁铁进行装配时，根据引出束流各个参数的要求标准，使用所述位置调节结构对所述内部离子源的位置进行调节；当所述引出束流的各个参数均达标时，停止对所述内部离子源的位置调节，并计算出此时所述内部离子源所处的位置，将该位置作为所述内部离子源的所述达标位置。本发明能将内部离子源的位置调节到达标位置，保证回旋加速器整机的稳定运行。

技术领域

本发明涉及回旋加速器领域，具体涉及一种用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法。

背景技术

回旋加速器的束流源头是离子源系统，回旋加速器所需的带电离子通过内部离子源与引出电极之间的电压被引出至高频腔体进行加速。内部离子源阳极与引出电极之间距离小并且电压高，因此其对应的引出电场强度很大，加上引出中心区电磁场情况及其复杂，故内部离子源阳极与引出电极之间细小的距离及角度的变化都会直接影响粒子引出的各个参数。因此内部离子源阳极与引出电极之间的位置关系直接影响到回旋加速器整机的运行。

然而，内部离子源是通过离子源支撑杆尾部的尾部法兰与回旋加速器的主磁铁进行固定连接的，我们并不能直接控制内部离子源的阳极位置，这对内部离子源的位置调节增加了以下的技术难度：其一：内部离子源阳极的引出缝隙的位置无法进行可视化调节。其二：内部离子源和中心区的结构复杂且不规则，无法精准地直接测量内部离子源和引出电极间的距离。其三：内部离子源和引出中心区是通过主磁铁间接配合的，机械加工中产生的加工误差已经进行了累积，该误差积累会直接影响其配合定位，从而会影响回旋加速器的整机束流品质和加速效率。其四，内部离子源经过长期运行、损耗件更换及维修后会降低重复定位的精度。如何精准调节内部离子源的位置，使内部离子源和引出电极精准匹配，优化回旋加速器整机的运行效果，已经成为亟待解决的技术问题。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明实施例的目的在于提供一种用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，以解决现有技术中，由于回旋加速器内部离子源的阳极与引出电极之间细小的距离及角度的变化都会直接影响粒子引出的各个参数，而内部离子源的阳极与引出电极之间的位置关系直接影响到回旋加速器整机的运行的问题。

为解决上述技术问题，本发明实施例采用的一技术方案如下：

一种用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法，用于将所述内部离子源的位置调节至达标位置，其包括以下步骤：在所述内部离子源的支撑件的尾部法兰处设置用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构，其中所述达标位置在所述位置调节结构的调节位置范围之内；在将所述内部离子源与中心区主磁铁进行装配时，根据引出束流各个参数的要求标准，使用所述位置调节结构对所述内部离子源的位置进行调节；当所述引出束流的各个参数均达标时，停止对所述内部离子源的位置调节，并计算出此时所述内部离子源所处的位置，将该位置作为所述内部离子源的所述达标位置。

为解决上述技术问题，本发明实施例采用的另一技术方案如下：

一种回旋加速器，包括内部离子源及主磁铁，所述内部离子源的支撑件与主磁铁通过法兰进行连接固定，其在所述内部离子源的的支撑件的尾部法兰上设有用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构。

本发明实施例的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明实施例的调节回旋加速器内部离子源位置的方法通过在所述内部离子源的尾部法兰处设置用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构，并根据引出束流各个参数的要求标准，使用所述位置调节结构对所述内部离子源的位置进行调节，可将所述内部离子源的位置调节至达标位置。本发明实施例的回旋加速器，其在所述内部离子源的法兰上设有用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构，可将所述内部离子源的位置调节至达标位置。本发明实施例可精准地调节内部离子源的位置，使内部离子源和引出电极精准匹配，优化了回旋加速器整机的运行效果。