[发明专利]涂布型染料偏光膜的制作方法及显示装置

权利要求书

1.一种涂布型染料偏光膜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、将金属盐、有机配体和第一溶剂混合成第一溶液；

步骤S2、提供去质子化溶剂，将所述第一溶液与去质子化溶剂混合均匀，并密封静置预设时长，以通过自组装得到金属有机框架；

步骤S3、提供含有染料的溶液，取出所述金属有机框架，并用含有染料的溶液浸泡所述金属有机框架，使得染料分子嵌入到所述金属有机框架中，以得到偏光膜晶体，所述偏光膜晶体具有与所述染料相同的颜色；

步骤S4、清洗所述偏光膜晶体；

步骤S5、提供一基材，将偏光膜晶体涂布至基材上，得到涂布型染料偏光膜；

所述步骤S3中，所述染料具有如式1至式6中的一种所示的结构：

所述步骤S3中用含有染料的溶液浸泡所述金属有机框架时，每间隔一预设的第一时长更换一次含有染料的溶液，并重复多次或者用含有染料的溶液持续浸泡所述金属有机框架一第二时长，所述第二时长大于所述第一时长。

2.如权利要求1所述的涂布型染料偏光膜的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中，金属盐为锌盐水合物，有机配体为草酸，第一溶剂为乙醇。

3.如权利要求1所述的涂布型染料偏光膜的制作方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述去质子化溶剂为二甲基甲酰胺。

4.如权利要求1所述的涂布型染料偏光膜的制作方法，其特征在于，所述步骤S4具体包括采用去离子水对所述偏光膜晶体进行多次清洗，直至清洗后的去离子水无色。

5.如权利要求1所述的涂布型染料偏光膜的制作方法，其特征在于，所述步骤S5采用丝印、辊对辊、或刮涂的方法涂布所述偏光膜晶体。

6.如权利要求1所述的涂布型染料偏光膜的制作方法，其特征在于，所述步骤S5中的基材为玻璃基板。

7.一种显示装置，其特征在于，包括涂布型染料偏光膜，所述涂布型染料偏光膜采用如权利要求1至6任一项所述的涂布型染料偏光膜的制作方法制作。