[发明专利]质量分析装置和质量分析方法有效
| 申请号： | 201810781274.7 | 申请日： | 2018-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN109283265B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 佐久田昌博;大川真;的场吉毅 | 申请（专利权）人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号： | G01N30/02 | 分类号： | G01N30/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 黄纶伟;孙明浩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 质量 分析 装置 方法 | ||
1.一种质量分析装置，其对含有第一物质和一种以上的第二物质的试样进行分析，所述第一物质由有机化合物构成，所述第二物质由有机化合物构成并且质谱的峰与所述第一物质的质谱的峰重叠，该质量分析装置的特征在于，
所述质量分析装置具有对所述第一物质和所述第二物质进行离子化的离子化部，
所述质量分析装置具有峰校正部，
当设各所述第二物质的标准物质的质谱的峰中的、不与所述第一物质的质谱的峰重叠的峰A和与所述第一物质的所述峰重叠的峰B的强度比（峰B）/（峰A）为校正系数W时，该峰校正部从所述试样中的所述第一物质的质谱的峰C的强度减去W×（峰A的强度）来计算所述第一物质的质谱的净峰D的强度，其中，所述峰A和所述峰B是因在所述离子化时由所述第二物质生成的碎片离子而引起的。
2.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中，
存在两种以上的所述第二物质，
所述峰校正部从所述峰C的强度减去针对各所述第二物质的W×（峰A的强度）的总和。
3.根据权利要求1或2所述的质量分析装置，其中，
所述峰校正部在W×（峰A的强度）超过了规定的阈值的情况下计算所述峰D的强度。
4.一种质量分析方法，对含有第一物质和一种以上的第二物质的试样进行分析，所述第一物质由有机化合物构成，所述第二物质由有机化合物构成并且质谱的峰与所述第一物质的质谱的峰重叠，该质量分析方法的特征在于，
对所述第一物质和所述第二物质进行离子化，
当设各所述第二物质的标准物质的质谱的峰中的、不与所述第一物质的质谱的峰重叠的峰A和与所述第一物质的所述峰重叠的峰B的强度比（峰B）/（峰A）为校正系数W时，从所述试样中的所述第一物质的质谱的峰C的强度减去W×（峰A的强度）来计算所述第一物质的质谱的净峰D的强度，其中，所述峰A和所述峰B是因在所述离子化时由所述第二物质生成的碎片离子而引起的。
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