[发明专利]一种纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅

权利要求书

1.一种纳米金属光栅的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一基板，在所述基板上形成平坦层；

在所述平坦层上形成刻蚀阻挡层；

在所述刻蚀阻挡层上形成金属层；

在所述金属层上形成具有光栅周期图形的压印胶；

以所述压印胶为掩模，对所述金属层进行刻蚀，以形成光栅层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光栅层的材料为铝，所述刻蚀阻挡层的材料为氧化铝、氧化硅和氮化硅中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，对所述金属层进行刻蚀的步骤包括：

采用等离子气体对未被压印胶覆盖的所述金属层进行干刻蚀。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述等离子气体为三氯化硼和氯气中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述刻蚀阻挡层的厚度为10～100纳米。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述基板上形成平坦层的步骤包括：

在所述基板上形成色彩转换层；

在所述色彩转换层上形成所述平坦层。

7.一种纳米金属光栅，其特征在于，所述纳米金属光栅包括从下到上依次形成的基板、平坦层、刻蚀阻挡层和光栅层；

其中，所述光栅层具有周期性的图案。

8.根据权利要求7所述的纳米金属光栅，其特征在于，所述刻蚀阻挡层的材料为氧化铝、氧化硅和氮化硅中的至少一种。

9.根据权利要求7所述的纳米金属光栅，其特征在于，所述刻蚀阻挡层的厚度为10～100纳米。

10.根据权利要求7所述的纳米金属光栅，其特征在于，所述纳米金属光栅进一步包括色彩转换层；

其中，所述色彩转换层设置在所述基板和所述平坦层之间。