[发明专利]一种纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅

说明书

本发明公开了一种纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅。该方法包括：提供一基板，在基板上形成平坦层；在平坦层上形成刻蚀阻挡层；在刻蚀阻挡层上形成金属层；在金属层上形成具有光栅周期图形的压印胶；以压印胶为掩模，对金属层进行刻蚀，以形成光栅层。通过上述方式，本发明能够避免出现平坦层被刻蚀而出现平坦层阻隔水氧的能力下降以及因光学衍射导致显示不均的问题。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅。

背景技术

纳米金属光栅能够透过电场方向垂直于光栅方向的入射光，而将电场方向平行于光栅方向的光反射，基于这样的工作原理，可以通过增加防反射膜等的方式将反射出的光重新利用，所以纳米金属光栅作为显示器偏光片透过入射光的能力远远大于传统偏光片，透过率可达90％以上，且对比度也有10000:1之高，可以极大幅度的提高LCD的透过率和对比度，满足市场上高穿透、高对比的需求。

目前制作纳米金属光栅的过程中，需要对金属膜进行刻蚀以形成光栅图案，而金属膜层较薄，会出现对金属膜层进行刻蚀时对金属膜层下的平坦层进行部分刻蚀，使平坦层受到不同程度的破坏，阻隔水氧的能力下降，同时可能引起因光学衍射导致的显示不均。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅，能够避免出现平坦层被刻蚀而出现平坦层阻隔水氧的能力下降以及因光学衍射导致显示不均的问题。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种纳米金属光栅的制作方法，该方法包括：提供一基板，在基板上形成平坦层；在平坦层上形成刻蚀阻挡层；在刻蚀阻挡层上形成金属层；在金属层上形成具有光栅周期图形的压印胶；以压印胶为掩模，对金属层进行刻蚀，以形成光栅层。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种纳米金属光栅，该纳米金属光栅包括从下到上依次形成的基板、平坦层、刻蚀阻挡层和光栅层，其中，该光栅层具有周期性的图案。

本发明的有益效果是：本发明的纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅通过在平坦层和光栅层之间设置刻蚀阻挡层，从而能够避免出现平坦层被刻蚀而出现平坦层阻隔水氧的能力下降以及因光学衍射导致显示不均的问题。

附图说明

图1是本发明实施例的纳米金属光栅的制作方法的流程示意图；

图2A-2B是图1所示制作方法在制作过程中的纳米金属光栅的结构示意图；

图3是图1所示制作方法制得的纳米金属光栅的结构示意图；

图4是图3所示纳米金属光栅的光学效果图。

具体实施方式

在说明书及权利要求书当中使用了某些词汇来指称特定的组件，所属领域中的技术人员应可理解，制造商可能会用不同的名词来称呼同样的组件。本说明书及权利要求书并不以名称的差异来作为区分组件的方式，而是以组件在功能上的差异来作为区分的基准。下面结合附图和实施例对本发明进行详细说明。

图1是本发明实施例的纳米金属光栅的制作方法的流程示意图。图2A-2B是图1所示制作方法在制作过程中的纳米金属光栅的结构示意图。需注意的是，若有实质上相同的结果，本发明的方法并不以图1所示的流程顺序为限。如图1所示，该方法包括如下步骤：

步骤S101：提供一基板，在基板上形成色彩转换层。

在步骤S101中，基板的材料包括但不限于玻璃、石英、PET、硅、蓝宝石或氧化铟锡中的一种，其只要对光具有高透过率即可。

另外，色彩转换层根据材料的不同可以采用不同的制程形成，其具体包括如下三类：