[发明专利]一种Nano CT成像质量检测用的分辨率测试卡及其制备方法

说明书

本发明公开了一种Nano CT成像质量检测用的分辨率测试卡制备方法，属于纳米材料和CT成像技术领域。包括步骤：对基体进行预处理，获取预处理后的基体；将所述预处理后的基体放置在氦离子显微镜内部的样品台上，利用所述氦离子显微镜内的镓离子源所产生的镓离子束流对所述预处理后的基体进行刻蚀，获取刻蚀条纹；对所述的刻蚀条纹进行宽度标定，获取本发明所述的分辨率测试卡。本发明还提供一种利用上述方法制备所得Nano CT成像质量检测用的分辨率测试卡。利用本发明所述制备方法具有易控制、工艺简单、周期短、效率高和成本低的优点，且所制备的Nano‑CT成像质量检测用的分辨率测试卡条纹宽度均匀、深度比大。

技术领域

本发明属于纳米材料和CT成像技术领域，涉及一种Nano CT成像质量检测用的分辨率测试卡及其制备方法。

背景技术

Nano CT是以Micro CT为基础进一步发展而来的分辨率更高的新型成像设备，将X射线成像的空间分辨率提高到了纳米级，在生物成像、病理检测以及集成电路检测等多个领域都有广阔的应用前景。Nano CT的成像质量一般用分辨率测试卡，它能起到客观描述图像分辨率的作用，直观简单地反应图像的分辨率性能指标。但是随着Nano CT的分辨率的提高，其分辨率测试卡的加工难度大、成本高，尤其是当系统分辨率较高时理想的点或线模体难以实现。目前分辨率测试卡加工常用的方法有电化学腐蚀法和微纳加工技术，由于电化学腐蚀法难以实现纳米数量级的分辨率测试卡加工，一般采用微机械加工、LIGA加工、离子束加工、激光加工等微纳加工技术。微机械加工使用机械手段仅能实现微米细节的加工；LIGA加工工艺尺寸可以达到微纳尺度，但是LIGA加工工艺成本比较高；离子束加工可以达到微纳尺度，但深宽比不能太大；激光加工速度快，精度高，但是难以实现纳米尺度。目前市场上X射线成像的空间分辨率测试卡是由德国QRM公司、美国Phantomlab公司和JIMA(日本检测仪器制造商协会)等国外公司提供，国内还没有相应文献提供技术支持。另外，随着Nano CT的发展，国外提供Nano CT成像的空间分辨率测试卡不能满足特定场合的应用，需要定制，而且价格昂贵。目前制备Nano-CT成像质量检测用的分辨率测试卡常用方法是微纳加工技术，但这些方法存在着制备工艺复杂、周期长和效率低等缺点。为此，研制一种NanoCT成像质量检测用的分辨率测试卡，对提高我国X射线实时成像质量检测能力具有重要意义。

发明内容

为解决现有技术中X射线实时成像图像质量检测用的分辨率测试卡的制备技术和分辨率测试卡的质量存在的检测问题，本发明提出一种Nano CT成像质量检测用的分辨率测试卡及其制备方法。

本发明首先提供一种Nano CT成像质量检测用的分辨率测试卡制备方法，具体包括如下步骤：

步骤一、对基体进行预处理，获取预处理后的基体；

步骤二、将所述预处理后的基体放置在氦离子显微镜内部的样品台上，利用所述氦离子显微镜内的镓离子源所产生的镓离子束流在所述预处理后的基体上进行刻蚀，获取刻蚀条纹；

步骤三、对所述的刻蚀条纹进行宽度标定，获取本发明所述的分辨率测试卡。

本发明还提供一种Nano CT成像质量检测用的分辨率测试卡，所述分辨率测试卡包括加工在基体上的刻蚀条纹和加工在基体上的标尺，所述基体由圆形薄钨片构成，所述刻蚀条纹包括横向条纹和纵向条纹。

所述基体直径为3-10mm，厚度为1-5μm，优选厚度为2μm；