[发明专利]镀膜设备及镀膜方法

权利要求书

1.一种镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：

所述至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；

所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置交替进入所述一个镀膜腔体，以对所述基底进行镀膜。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述控制单元，用于控制所述至少两个卷绕装置顺次执行以下步骤：

所述至少两个卷绕装置中的一个完成一个基底的卷绕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的一个进入所述镀膜腔体，以对所述一个基底进行镀膜；

对所述一个基底镀膜完毕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的一个移出所述镀膜腔体；

所述控制单元控制完成另一个基底卷绕的所述至少两个卷绕装置中的另一个进入所述镀膜腔体，以对所述另一个基底进行镀膜；

对所述另一个基底镀膜完毕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的另一个移出所述镀膜腔体。

3.根据权利要求1或2所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括输送装置，所述输送装置上设置有卷绕位置和装卸位置，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置在所述装卸位置和所述卷绕位置之间移动，所述卷绕装置在所述卷绕位置完成所述基底的卷绕，所述卷绕装置在所述装卸位置进入所述镀膜腔体和从所述镀膜腔体中移出。

4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述输送装置包括：至少一个导轨，所述至少两个卷绕装置可移动地设置于所述至少一个导轨上。

5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述导轨的数量为一个，所述导轨位于所述镀膜腔体的一侧，所述至少两个卷绕装置顺次排列于所述导轨上，所述导轨上设置有一个所述装卸位置和两个所述卷绕位置，所述两个卷绕位置分别设置于所述装卸位置的两侧。

6.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述导轨的数量为一个，所述导轨呈开口环状，所述至少两个卷绕装置顺次排列于所述导轨上，所述导轨的两端部分别设置有所述装卸位置，所述导轨的任意位置处设置有所述卷绕位置。

7.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述导轨的数量为多个，每一个所述导轨上可移动地设置有所述至少两个卷绕装置中的一个，每一个所述导轨上设置有一个所述装卸位置和一个所述卷绕位置。

8.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述控制单元还用于控制所述至少两个卷绕装置卷绕所述基底。

9.一种镀膜方法，其特征在于，采用权利要求1至8任一所述的镀膜设备，所述镀膜方法包括：

所述至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；

所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置交替进入所述镀膜腔体，以对所述基底进行镀膜。

10.根据权利要求9所述的镀膜方法，其特征在于，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置交替进入所述镀膜腔体，以对所述基底进行镀膜，具体包括：

所述至少两个卷绕装置中的一个完成一个基底的卷绕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的一个进入所述镀膜腔体，以对所述一个基底进行镀膜；

对所述一个基底镀膜完毕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的一个移出所述镀膜腔体；

控制完成另一个基底卷绕的至少两个卷绕装置中的另一个进入镀膜腔体，以对所述另一个基底进行镀膜；

对所述另一个基底镀膜完毕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的另一个移出所述镀膜腔体；

所述至少两个卷绕装置顺次执行以上步骤，直至镀膜结束。