[发明专利]镀膜设备及镀膜方法

说明书

本申请公开了一种镀膜设备及镀膜方法，属于镀膜技术领域。所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；控制单元控制至少两个卷绕装置交替进入一个镀膜腔体，以对基底进行镀膜。本申请解决了镀膜腔体在大气环境中的暴露时间长，且镀膜腔体进行抽真空所需的时间较长的问题，减少了镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率，本申请用于镀膜设备。

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，特别涉及一种镀膜设备及镀膜方法。

背景技术

镀膜工艺通常需要可控的和相对稳定的环境，而真空环境具有可控性和稳定性的特点，因此，镀膜设备在镀膜工艺中得到了广泛的应用。

镀膜设备包括一个卷绕装置和一个镀膜腔体。示例的，在对多个基材中的一个基材进行镀膜时，工作人员需要先将该基材安装在卷绕装置上，然后将承载有该基材的卷绕装置放入镀膜腔体内，并控制镀膜腔体进行抽真空以及在抽真空后对该基材进行镀膜。在对该基材镀膜完毕后，工作人员需要将承载有该基材的卷绕装置移出该镀膜腔体，并将镀膜后的基材从卷绕装置上取下。然后，便可重复上述步骤，以对其他基材进行镀膜。需要说明的是，在将承载有一个基材的卷绕装置移出镀膜腔体前，通常打开镀膜腔体，且在将下一个基材安装在卷绕装置上，并将承载有该下一个基材的卷绕装置放入镀膜腔体的过程中，该镀膜腔体持续处于打开状态；在承载有该下一个基材的卷绕装置进入镀膜腔体后，才会将镀膜腔体关闭。

由于基材在卷绕装置上的安装时间通常较长，若在安装基材前镀膜腔体已经打开，则会导致镀膜腔体在大气环境中的暴露时间较长，进而使得在该基材进入镀膜腔体后，镀膜腔体进行抽真空所需的时间较长，影响镀膜的效率和产品质量。

发明内容

本申请提供了一种镀膜设备及其使用方法，可以解决镀膜腔体进行抽真空所需的时间较长的问题，所述技术方案如下：

一方面，提供了一种镀膜设备，所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：

所述至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；

所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置交替进入所述一个镀膜腔体，以对所述基底进行镀膜。

可选的，所述控制单元，用于控制所述至少两个卷绕装置顺次执行以下步骤：所述至少两个卷绕装置中的一个完成一个基底的卷绕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的一个进入所述镀膜腔体，以对所述一个基底进行镀膜；

对所述一个基底镀膜完毕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的一个移出所述镀膜腔体；

控制完成另一个基底卷绕的所述至少两个卷绕装置中的另一个进入所述镀膜腔体，以对所述另一个基底进行镀膜；

对所述另一个基底镀膜完毕后，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置中的另一个移出所述镀膜腔体。

可选的，所述镀膜设备还包括输送装置，所述输送装置上设置有卷绕位置和装卸位置，所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置在所述装卸位置和所述卷绕位置之间移动，所述卷绕装置在所述卷绕位置完成所述基底的卷绕，所述卷绕装置在所述装卸位置进入所述镀膜腔体和从所述镀膜腔体中移出。

可选的，所述输送装置包括：至少一个导轨，所述至少两个卷绕装置可移动地设置于所述至少一个导轨上。

可选的，所述导轨的数量为一个，所述导轨位于所述镀膜腔体的一侧，所述至少两个卷绕装置顺次排列于所述导轨上，所述导轨上设置有一个所述装卸位置和两个所述卷绕位置，所述两个卷绕位置分别设置于所述装卸位置的两侧。

可选的，所述导轨的数量为一个，所述导轨呈开口环状，所述至少两个卷绕装置顺次排列于所述导轨上，所述导轨的两端部分别设置有所述装卸位置，所述导轨的任意位置处设置有所述卷绕位置。