[发明专利]雷达料位测量装置及雷达料位测量装置的操作方法

权利要求书

1.一种雷达料位测量装置(10)，用于确定介质的料位，所述雷达料位测量装置(10)包括：

发射单元(12)，其用于向所述介质发送发射信号；

接收单元(13)，其用于接收被所述介质反射的接收信号；以及

控制器(11)，其配置成基于所述接收信号以及基于至少一个估算参数确定所述介质的所述料位；

其中，所述雷达料位测量装置(10)被配置用于改变所述发射信号的发射功率；

其中，所述控制器(11)被配置用于确定所述发射信号的当前发射功率；

其特征在于，

所述控制器(11)被配置成基于所确定的所述当前发射功率改变所述至少一个估算参数的值以确定所述料位，使得所述料位在考虑所述发射功率的情况下被确定，

其中，所述至少一个估算参数包括用于与所述接收信号相关的测量信号(30)的幅度的阈值，并且，

其中，所述控制器(11)配置成基于确定的所述当前发射功率确定和/或改变所述阈值。

2.根据权利要求1所述的雷达料位测量装置(10)，

其中，所述控制器(11)配置成基于多个估算参数确定所述介质的所述料位，并且，

其中，为了确定所述的料位，所述控制器(11)配置成基于确定的所述当前发射功率确定和/或改变各估算参数的值。

3.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，

其中，所述控制器(11)配置成与所述发射功率成线性关系或成对数关系地改变所述至少一个估算参数的值；和/或

其中，所述控制器(11)配置成与所述发射功率成线性关系或成对数关系地改变与所述接收信号相关的至少一个测量信号(30)。

4.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述至少一个估算参数包括干扰信号抑制，所述干扰信号抑制包括与干扰物体的位置相关的信息。

5.根据权利要求4所述的雷达料位测量装置(10)，

其中，所述干扰信号抑制包括杂波曲线，所述杂波曲线与所述干扰物体的位置相关；和/或

其中，所述干扰信号抑制包括空容器曲线，所述空容器曲线与所述介质的容器的几何形状相关。

6.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，

其中，所述控制器(11)配置成利用预定发射功率下的至少一次基准测量确定所述至少一个估算参数的基准值；并且

其中，所述控制器(11)配置成基于所述至少一次基准测量确定所述至少一个估算参数的值和所述发射功率之间的函数关系。

7.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，

其中，所述控制器(11)配置成基于第一发射功率下的第一基准测量确定所述至少一个估算参数的第一基准值；

其中，所述控制器(11)配置成基于不同于所述第一发射功率的第二发射功率下的第二基准测量确定所述至少一个估算参数的第二基准值；并且

其中，所述控制器(11)配置成基于所述第一基准测量和所述第二基准测量确定所述至少一个估算参数的值与所述发射功率之间的函数关系。

8.根据权利要求7所述的雷达料位测量装置(10)，

其中，所述第一发射功率为最大发射功率；和/或

其中，所述第二发射功率为最小发射功率。

9.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述雷达料位测量装置(10)配置成基于时间在先的接收信号改变所述发射信号的所述发射功率。

10.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述雷达料位测量装置(10)配置成在最小发射功率和最大发射功率之间连续地和/或阶梯式地改变所述发射信号的所述发射功率。