[发明专利]近红外滤光片及其制备方法和滤光设备

说明书

本发明涉及光学器件技术领域，具体而言，提供了一种近红外滤光片及其制备方法和滤光设备。本发明提供的近红外滤光片，包括玻璃基体和设于玻璃基体一侧表面的滤光层，滤光层包括依次交替设置的SiO₂膜层与SiH膜层，其中，SiO₂膜层与玻璃基体接触，SiO₂膜层与SiH膜层的层数之和为20‑40层，滤光层的厚度为3000‑4500nm。该近红外滤光片，SiH膜层为高折射率薄膜，SiO₂膜层为低折射率薄膜，两种薄膜交替堆叠得到的滤光层用于近红外滤光片的制备，使得近红外滤光片起到有效地滤光作用。本发明提供上述近红外滤光片的制备方法，该方法操作简单，成本低，不需要的特殊的设备和工艺条件，适合工业化和自动化生产。

技术领域

本发明涉及光学器件技术领域，具体而言，涉及一种近红外滤光片及其制备方法和滤光设备。

背景技术

近红外滤光片在航天气象、自然灾害，资源普查、遥感系统、红外相机以及很多军工产品中有着重要的作用。从光学镀膜角度来看，近红外滤光片是对某一特定波段具有高透过率，同时对另外特性波段高度截止的光学器件。近红外滤光片对各膜层厚度、膜层牢固度和光学性能都有极高的的要求。但是目前可供选择的近红外滤光片的品种很少，制备难度大，产品良率低，成本高，滤光效果差等是需要解决的技术问题。

目前的近红外滤光片主要以普通玻璃(折射率为1.52)作为基体，采用Ge、Ta₂O₅、TiO₂、Si、SiO、SiO₂等材料组合的方案作为滤光层制备近红外滤光片，这种滤光片对近红外波段光的吸收性较高，特别是滤光层中的材料层数需要制备80层以上才能达到良好的滤光效果。这样增加了滤光层制备的工艺和难度，也增加了材料成本和滤光片的厚度，滤光片的质量和良率很难保证。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种近红外滤光片，以缓解现有技术中近红外滤光片厚度较厚，滤光效果较差和良率低，材料叠加层数较多从而制备难度大并且成本高的技术问题。

本发明的第二目的在于提供上述近红外滤光片的制备方法，以缓解现有技术中近红外滤光片的生产工艺产率低，成本居高不下，制备得到的近红外滤光片滤光效果差的技术问题。

本发明的第三目的在于提供一种滤光设备，缓解现有技术中缺少一种滤光效果好，成本低的滤光设备。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

一种近红外滤光片，包括玻璃基体和设于所述玻璃基体一侧表面的滤光层；

所述滤光层包括依次交替设置的SiO₂膜层与SiH膜层，所述SiO₂膜层与所述玻璃基体接触；

所述SiO₂膜层与所述SiH膜层的层数之和为20-40层，所述滤光层的厚度为3000-4500nm。

进一步地，所述SiO₂膜层与所述SiH膜层的层数之和为20-35层，优选为20-30层。

进一步地，所述SiO₂膜层的各层厚度之和为2500-3500nm，所述SiH膜层的各层厚度之和为500-1000nm。

进一步地，所述SiO₂膜层的每层层厚为10-400nm，所述SiH膜层的每层层厚为10-100nm。

进一步地，所述玻璃基体为蓝宝石玻璃。

一种近红外滤光片的制备方法，在所述玻璃基体表面依次交替制备SiO₂膜层和SiH膜层。