[发明专利]一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置

权利要求书

1.一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置，其特征在于，包括：

用于自待测面板一侧向待测面板发射检测信号的信号发射模块；

用于自所述待测面板另一侧检测由所述信号发射模块所发射的并穿过所述待测面板后的信号检测模块；

用于向待测面板提供电压信号的电压信号产生模块；

与所述信号检测模块以及电压信号产生模块信号连接的分析模块，所述分析模块用于根据所述信号检测模块检测的信号以及所述电压信号产生模块反馈的电压信号确定所述待测面板内部多晶硅薄膜层的均匀性。

2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述信号发射模块为用于向待测面板发射线偏振光的激光发射组件。

3.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述激光发射组件包括：

线偏振光激光发射器；或者，

非偏振光激光发射器和设置于所述非偏振光激光发射器出光侧的偏振片。

4.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述信号检测模块包括光强传感器。

5.根据权利要求1的所述的检测装置，其特征在于，所述信号发射模块包括至少一个信号发射装置，所述信号检测模块包括与所述信号发射装置一一对应的信号检测装置，每一对相互对应的信号发射装置和信号检测装置中，所述信号检测装置用于检测所述信号发射装置发射的信号穿过待测面板后的信号。

6.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述电压信号产生模块包括：

信号发生器、导线探针。

7.根据权利要求6所述的检测装置，其特征在于，所述信号发生器为交流电压信号发生器或者直流电压信号发生器。

8.根据权利要求7所述的检测装置，其特征在于，当所述信号发生器为交流电压信号发生器时，所述分析模块包括示波器或者锁相放大器。

9.根据权利要求7所述的检测装置，其特征在于，当所述信号发生器为直流电压信号发生器时，所述分析模块包括示波器或者光功率计。