[发明专利]一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置

说明书

本发明涉及显示器件检测领域，特别涉及一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置。上述检测装置包括：信号发射模块、信号检测模块、电压信号产生模块、分析模块；分析模块用于根据信号检测模块检测到的信号以及电压信号产生模块反馈的电压信号确定待测面板内部多晶硅薄膜层的均匀性。上述信号发射模块发射的检测信号可以穿过待测面板，检测待测面板的多晶硅薄膜层内部结构的均匀性，信号检测模块自待测面板的另一侧检测穿过待测面板后的信号；电压信号产生模块向待测面板提供相应的电压信号，分析模块确定待测面板内部多晶硅薄膜层的均匀性。上述装置能够对待测面板内部多点位的多晶硅薄膜层进行检测，对多晶硅薄膜层的均匀性检测更加准确。

技术领域

本发明涉及显示器件检测领域，特别涉及一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置。

背景技术

利用低温多晶硅(Low Temperature Poly Silicon,LTPS)材料制备的薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)，由于具有较高的载流子迁移率、较低的工艺温度和较为廉价的工艺成本而广泛应用于平板显示等行业。目前，LTPS TFT已成为液晶显示(LiquidCrystal Display,LCD)和有源矩阵有机发光二极管显示(Active Matrix Organic Light-Emitting Diode,AMOLED)领域应用的主要电路组成元件之一。

制备TFT时首先在玻璃基板上沉积一层多晶硅薄膜，多晶硅薄膜层上面沉积有绝缘层和金属层。多晶硅薄膜层、绝缘层和金属层经过蚀刻后形成TFT，因此TFT的基本性质由三层材料共同决定。

多晶硅薄膜层存在缺陷，并且不同晶粒之间存在晶粒界面，简称晶界，晶界附近存在空间电荷区。缺陷和空间电荷区会形成势垒或载流子陷阱，这对于载流子迁移率和TFT的阈值电压及电流驱动能力有重要影响，若TFT提供的驱动电流的不够均匀，则会造成各种显示色彩不均(Mura)。

所以，整个玻璃基板上多晶硅薄膜层的均匀性是影响TFT电流驱动能力的均匀性的一个重要因素，监测多晶硅薄膜层的均匀性也是预防显示Mura和探测显示不良原因的重要手段。

目前，TFT电学特性测量是生产线内(inline)和生产线外(offline)环境下的检测重点，通过测量TFT的电学特性可以确定TFT在整个玻璃基板上的均匀性，但无法检测多晶硅薄膜层的均匀性。因此，这种测量方式无法精确找出影响TFT均匀性的关键因素，只能根据测试者的经验判断影响TFT均匀性的因素是多晶硅薄膜层不良抑或是绝缘层不良。

发明内容

本发明提供一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置，上述检测装置能够检测待测面板的多晶硅薄膜层内部结构的均匀性，对多晶硅薄膜层的均匀性检测更加准确。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

本发明提供了一种多晶硅薄膜层的均匀性检测装置，包括：

用于自待测面板一侧向待测面板发射检测信号的信号发射模块；

用于自所述待测面板另一侧检测由所述信号发射模块发射并穿过所述待测面板的信号的信号检测模块；

用于向待测面板提供电压信号的电压信号产生模块；

与所述信号检测模块以及电压信号产生模块信号连接的分析模块，所述分析模块用于根据所述信号检测模块检测的信号以及所述电压信号产生模块反馈的电压信号确定所述待测面板内部多晶硅薄膜层的均匀性。