[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201810847573.6 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN110289249A 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 下川一生;内田雅之;东条启;田边成俊;伊藤宜司 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L23/535 分类号: H01L23/535;H01L25/04
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体芯片 半导体装置 接合 电极垫 金属线 芯片群 下段 线接合 薄化
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,具备:

配线衬底;

第1芯片群,具有在所述配线衬底之上呈阶梯状积层的多个第1半导体芯片;

第2芯片群,具有在所述第1芯片群之上呈阶梯状积层的多个第2半导体芯片;

第3半导体芯片,设置在所述第1芯片群与所述第2芯片群之间;

第1金属线,将所述第1芯片群与所述配线衬底连接;

第2金属线,将所述第2芯片群与所述配线衬底连接;以及

第3金属线,将所述第3半导体芯片与所述配线衬底连接;且

所述多个第1半导体芯片各自具有:第1端部,越靠下段的第1半导体芯片比上段的第1半导体芯片更朝第1方向突出而形成;以及第1电极垫,设置在所述第1端部,且接合着所述第1金属线;

所述多个第2半导体芯片各自具有:第2端部,越靠下段的第2半导体芯片比上段的第2半导体芯片更朝与所述第1方向相反的第2方向突出而形成;以及第2电极垫,设置在所述第2端部,且接合着所述第2金属线;

所述第3半导体芯片具有:第1部分,重叠在所述第1芯片群之上;第2部分,比所述第1芯片群及所述第2芯片群更朝所述第2方向突出,且比所述第1部分厚;

以及第3电极垫,设置在所述第2部分,且接合着所述第3金属线。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中所述第3半导体芯片的所述第2部分的厚度比1个所述第1半导体芯片的厚度、以及1个所述第2半导体芯片的厚度厚。

3.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其中所述第3半导体芯片的所述第2部分的厚度比所述第1芯片群的厚度薄,且所述第2部分并未与所述配线衬底相接。

4.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其中所述第3半导体芯片的所述第2部分中的与所述第1芯片群相对的侧面和所述第1芯片群的最上层的第1半导体芯片的侧面隔开。

5.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其还具备树脂层,所述树脂层设置在所述多个第1半导体芯片之间、所述多个第2半导体芯片之间、所述第1芯片群的最上层的第1半导体芯片与所述第3半导体芯片之间、以及所述第2芯片群的最下层的第2半导体芯片与所述第3半导体芯片之间。

6.根据权利要求5所述的半导体装置,其中所述第3半导体芯片的所述第2部分中的与所述第1芯片群相对的侧面和所述最上层的第1半导体芯片的侧面隔开,

在所述第3半导体芯片的所述第2部分的所述侧面与所述最上层的所述第1半导体芯片的所述侧面之间,设置着所述树脂层的一部分。

7.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其还具备树脂部,所述树脂部设置在所述配线衬底上,且覆盖所述第1芯片群、所述第2芯片群、所述第3半导体芯片、所述第1金属线、所述第2金属线、以及所述第3金属线。

8.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其中所述第3半导体芯片包含设置在所述第1部分的存储元件。

9.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其还具备:

第3芯片群,具有在所述第2芯片群之上呈阶梯状积层的多个第4半导体芯片;

第5半导体芯片,设置在所述第2芯片群与所述第3芯片群之间;

第4金属线,将所述第3芯片群与所述配线衬底连接;以及

第5金属线,将所述第5半导体芯片与所述配线衬底连接;且

所述多个第4半导体芯片各自具有:第4端部,越靠下段的第4半导体芯片比上段的第4半导体芯片更朝所述第1方向突出而形成;以及第4电极垫,设置在所述第4端部,且接合着所述第4金属线;

所述第5半导体芯片具有:第3部分,重叠在所述第2芯片群之上;第4部分,比所述第2芯片群及所述第3芯片群更朝所述第1方向突出,且比所述第3部分厚;

以及第5电极垫,设置在所述第4部分,且接合着所述第5金属线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝存储器株式会社,未经东芝存储器株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810847573.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top