[发明专利]板材、制备板材的方法、壳体、电子设备在审
申请号: | 201810847674.3 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN108947590A | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 杨光明 | 申请(专利权)人: | OPPO(重庆)智能科技有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C23C14/22;H05K5/02;H04M1/02 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 赵天月 |
地址: | 401120 重庆*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 颜色调节层 电子设备 陶瓷基板 壳体 制备 陶瓷壳体 位置处 制作 | ||
1.一种板材,其特征在于,包括:
陶瓷基板;以及
颜色调节层,所述颜色调节层设置在所述陶瓷基板上,所述颜色调节层不同位置处的厚度不完全相同。
2.根据权利要求1所述的板材,其特征在于,所述颜色调节层包括多个层叠设置的亚层,多个所述亚层包括交替设置的高折射率亚层以及低折射率亚层,所述高折射率亚层不同位置处的厚度不完全相同,所述低折射率亚层不同位置处的厚度也不完全相同。
3.根据权利要求2所述的板材,其特征在于,沿着同一方向,所述高折射率亚层以及所述低折射率亚层的厚度的变化趋势相同。
4.根据权利要求2所述的板材,其特征在于,形成所述高折射率亚层的材料包括Si、Ta2O5,Ti3O5、Ti2O3、TiO2、TiO、Nb2O5、ZnS、ZrO2以及Si3N4的至少之一;
形成所述低折射率亚层的材料包括SiO2、MgF2以及Al2O3的至少之一。
5.根据权利要求1所述的板材,其特征在于,所述颜色调节层的厚度为2nm-1μm。
6.根据权利要求2所述的板材,其特征在于,所述亚层的厚度为1nm-200nm。
7.根据权利要求1所述的板材,其特征在于,进一步包括:
抗指纹膜层,所述抗指纹膜层设置在所述颜色调节层远离所述陶瓷基板的一侧。
8.一种制备板材的方法,其特征在于,包括:
提供陶瓷基板;
利用真空镀膜在所述陶瓷基板上形成厚度渐变的颜色调节层。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述利用真空镀膜在所述陶瓷基板上形成厚度渐变的颜色调节层包括:
在所述陶瓷基板上依次形成多个厚度逐渐增大或逐渐减小的亚层,其中,
多个所述亚层包括交替设置的高折射率亚层以及低折射率亚层。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述亚层的厚度是通过在真空镀膜过程中,调节镀源与所述陶瓷基板之间的夹角而实现的。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述夹角是通过调整真空镀膜过程中所述陶瓷基板和承载基板之间的夹角、或者修正板与所述承载基板之间的夹角实现的。
12.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述夹角是通过以下步骤确定的:
将所述陶瓷基板划分为多个镀膜分区,每个所述镀膜分区具有不同的预设颜色;
基于每个所述预设颜色,确定每个所述镀膜分区中所述颜色调节层的总预设厚度以及所述亚层的数量;
基于所述总预设厚度以及所述数量,确定所述亚层在多个所述镀膜分区的预设厚度;
基于所述亚层在多个所述镀膜分区中的所述预设厚度,确定所述亚层的厚度变化趋势;
基于所述厚度变化趋势,确定形成所述亚层时的所述夹角。
13.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述夹角为1-45度。
14.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述利用真空镀膜在所述陶瓷基板上形成厚度渐变的颜色调节层之后,进一步包括:
利用所述真空镀膜在所述颜色调节层上形成抗指纹膜层。
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