[发明专利]高密度ITO靶材的制备方法

权利要求书

1.一种高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

a.将铟粒与硝酸混合，反应后得到混合溶液，向溶液中加入氨水，反应得到白色沉淀物氢氧化铟，将氢氧化铟老化、过滤、清洗、干燥；

b.将四氯化锡溶液和氨水反应，得到絮状沉淀物氢氧化锡，将氢氧化锡老化、过滤、清洗、干燥；

c.将以上两种沉淀物混合，按氢氧化铟：氢氧化锡的质量比9：1，清洗、干燥、充分研磨混合；

d.将研磨后的粉末煅烧后得到ITO粉末；

e.将ITO粉末、蒸馏水、聚羧酸类分散剂、蜡基粘合剂混合研磨后得到浆液，所得浆液用喷雾干燥法干燥；

f.将干燥后的ITO粉末装入模具预压成型，然后再用冷等静压机压制成ITO靶材胚料；

g.脱脂去除上述胚料中的分散剂、粘合剂，然后在低压氧氛煅烧炉内煅烧成ITO烧结体，机加工成型后得到ITO靶材。

2.根据权利要求1所述的高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，步骤a中，所述铟粒采用以下方法制备：将表面附有甘油的金属铟块，在150-230℃下溶解后冷却，通过2mm直径的不锈钢喷嘴滴至循环冷却蒸馏水中，得到铟粒。

3.根据权利要求1所述的高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤a中，铟粒径为2-5mm，硝酸的浓度为50-70wt％，溶解铟的反应温度为50-110℃，反应时间为24小时，氨水浓度为20-28wt％，中和沉淀反应与老化时间为18-32小时。

4.根据权利要求1所述的高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤b中，四氯化锡溶液中锡离子的浓度为20g/L-60g/L，氨水的浓度为20wt％-28wt％，氢氧化锡沉淀溶液的pH值在7-10，反应和老化时间为12-36小时。

5.根据权利要求1所述的高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤c中清洗后，残液中氯离子含量小于80-10ppm，干燥时间为24小时，混合研磨4-8小时。

6.根据权利要求1所述的高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤d中，煅烧温度为300-1100℃，煅烧时间为3-12小时。

7.根据权利要求1所述的高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤e中，ITO浆液中，ITO粉末、蒸馏水、聚羧酸类分散剂、蜡基粘合剂的重量比例100：85：0.5：1。

8.根据权利要求1所述的高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤f中预压成型压力为30-250kg/cm2，冷等静压压力为150-300MPa。

9.根据权利要求1所述的高密度ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤g中脱脂温度为100-600℃，脱脂时间80-100小时，低压氧氛煅烧炉压力1.1-1.5个大气压，流量为0.5-5L/m2/分钟，煅烧温度300-1600℃，煅烧时间为36-48小时。