[发明专利]用于能变化地影响射线束的波前的设备

说明书

本发明涉及一种用于能变化地影响射线束的波前的设备，其具有反射式或透射式的平面光学器件(1)和调节和保持装置(2)，该调节和保持装置经由至少三个弹性的保持压板(2.3)与平面光学器件(1)连接，使得能够经由至少一个布置在调节和保持装置(2)中的调节元件(2.4)将力导入到其中至少一个保持压板(2.3)中，这些力由于保持压板(2.3)在其作用方向上变弯而转向，使得这些保持压板在平面光学器件(1)的周面(1.3)上造成了其作用方向(R_A)平行于平面光学器件(1)的对称轴线(A)的力，从而使平面光学器件(1)可以有针对性地发生变形。

技术领域

本发明涉及一种具有平面光学器件和调节和保持装置的设备，平面光学器件保持在该调节和保持装置中，并且该平面光学器件的起光学作用的表面能够通过对调节和保持装置的调节元件的操作而有针对性地发生变形。利用这种设备可以影响射入的射线束，以便补偿射线束的成像误差(像差)，成像误差由光学系统的一个或多个光学元件引起，并且总的来说它们可以作为波前误差被检测到。

背景技术

波前误差可以尤其以所谓的泽尔尼克(Zernike)多项式来描述并表示。波前误差可以例如利用波前像差计来检测。波前误差在此可以由单个的成像误差引起，或者可以由光学系统的单个或多个光学元件的不同的成像误差的叠加引起。通常，各个光学元件具有对光学系统的重要的成像误差占主导的影响，并且由此所引起的波前变形具有对此是典型的显型(Erscheinungsbild)，通过其中一个光学元件的表面或例如是为了该目的而附加地在系统中布置的反光镜的表面可以抵消该显型。

为了抵消成像误差，由现有技术公知了大量的解决方案，它们使用平面光学器件(通常是反光镜)的有针对性的表面变形。基本上，这些表面变形的区别在于，调节装置在哪里作用在平面光学器件上并且相应地在哪里将力输入到平面光学器件中。在这些解决方案的一部分中，力输入在平面光学器件的周面上或在邻接周面的边缘区域中实现。下面仅考虑这些解决方案。

利用根据US 2012/0275041A1的校正设备可以对光学仪器内部的已知的源的成像误差进行校正。为此，将可变形的反光镜引入到该布置的如下光路中，沿着该光路传播电磁辐射的射线。将力施加到可变形的反光镜的圆周边缘上并且将力导入到反光镜中，从而使该反光镜依赖于其轮廓以及力导入地点和所导入的力的矢量(数值、方向)而发生变形。通过这样引起的反光镜变形并且反光镜的由此局部改变的反射特性，由于出现光程不同而能够实现对出现的波前误差的校正。

具体而言，在上述的US 2012/0275041A1中提出的是，依赖于所要校正的图像误差地选择反光镜的轮廓，例如选择圆形，以便校正焦点位置，或选择椭圆形，以便校正焦点位置和像散性。因此，尽管作用在圆周线上的力相同，但根据力输入距反光镜的中点的间距而定地，有局部大小不同的弯矩被输入到表面上。作为用于力输入的机构而提出的是，具有与反光镜所具有的轮廓相同的轮廓的中间板经由环形件与反光镜的圆周边缘连接，并且例如借助压电执行器居中地将随后作用在反光镜的圆周上的力导入到在中间板中。为了使力作用沿着反光镜的圆周有差异而提出的是，使中间板在其厚度方面有差异地实施，或者/并且将力偏离中心地导入到中间板中。在该解决方案中，可以在反光镜中产生沿着圆周有大小不同的弯曲力矩。但是，弯曲力矩相互间的关系利用反光镜的轮廓的设计来预设，并且因此不再可变。

由US 7 229 178B1公知有一种可变形的反光镜，其圆形或椭圆形的反光镜板可以在靠内的(较小的)和靠外的(较大的)环形的撑托部之上抛物线状地弯曲。为此，反光镜被容纳在环形的撑托部之间。为此所需的力经由机械的调节元件导入。调节元件直接或间接地经由杠杆作用到其中一个环形的撑托部上。经由平坦且平行的环形的撑托部的导入总是相对反光镜的对称轴线在中心来实现。以此仅能够影响抛物线状的表面的参数。在此，没有局部差异化的力输入也是可行的。