[发明专利]多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法有效
申请号: | 201810870461.2 | 申请日: | 2018-08-02 |
公开(公告)号: | CN109388033B | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 松本裕史 | 申请(专利权)人: | 纽富来科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01J37/317 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带电 粒子束 描绘 装置 以及 方法 | ||
1.一种多带电粒子束描绘装置,具备:
放射源,放射带电粒子束;
成形孔径阵列基板,受到上述带电粒子束的照射,形成多带电粒子束;
组合设定处理电路,按成为上述多带电粒子束的设计上的照射位置的多个设计栅格的每个设计栅格,使用实际的照射位置与该设计栅格接近的4个以上的束,设定上述实际的照射位置包围该设计栅格的各3个束所组合成的多个组合;
第1分配系数运算处理电路,按照上述多个组合的每个组合,对构成该组合的3个束,运算对构成该组合的上述3个束的各束的第1分配系数,该第1分配系数用于以分配后的各分配剂量的重心位置以及总和与该设计栅格位置以及对该设计栅格照射的预定的剂量一致的方式分配对该设计栅格照射的预定的上述剂量;
第2分配系数运算处理电路,按照上述4个以上的束的每个束,运算将对与该束对应的上述第1分配系数进行合计而得到的值除以上述多个组合的数而得到的、相对于该设计栅格的上述4个以上的束的各束的第2分配系数;以及
描绘机构,使用对各设计栅格照射的预定的上述剂量分别被分配给对应的4个以上的束的多带电粒子束,对试样描绘图案。
2.根据权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
对上述各设计栅格照射的预定的上述剂量被分配给上述实际的照射位置与该设计栅格接近的4个束,
上述多带电粒子束描绘装置还具备接近束选择处理电路,该接近束选择处理电路按每个上述设计栅格,从通过在该设计栅格穿过的角度不同的2条直线分割的4个区域中分别选择与最接近的照射位置对应的束,作为上述实际的照射位置与该设计栅格接近的上述4个束。
3.根据权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
还具备再分配处理电路,该再分配处理电路对于若被分配上述剂量则分配剂量超过阈值的束,对该束的周围的多个束再分配向该束分配的分配剂量的一部分。
4.根据权利要求3所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
还具备再分配束选择处理电路,该再分配束选择处理电路从多个组合中选择再分配的重心位置的偏移尽可能小的组合的束组,作为成为再分配目标的上述多个束。
5.根据权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
还具备照射量图制作处理电路,该照射量图制作处理电路制作定义了每个上述设计栅格的入射照射量的照射量图。
6.根据权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
还具备束位置偏移图制作处理电路,该束位置偏移图制作处理电路制作对上述多带电粒子束的各束的位置偏移量进行定义的第1束位置偏移量图。
7.根据权利要求6所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
上述束位置偏移图制作处理电路还使用上述第1束位置偏移量图来制作每个设计栅格的第2束位置偏移量图。
8.根据权利要求7所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
使用上述第2束位置偏移量图求出上述实际的照射位置。
9.根据权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
还具备剂量分配表制作处理电路,该剂量分配表制作处理电路制作使上述各束的上述第2分配系数与上述多个设计栅格中的关注的设计栅格关联而定义的剂量分配表。
10.一种多带电粒子束描绘方法,包括如下步骤:
按成为多带电粒子束的设计上的照射位置的多个设计栅格的每个设计栅格,使用实际的照射位置与该设计栅格接近的4个以上的束,设定上述实际的照射位置包围该设计栅格的各3个束所组合的多个组合,
按照上述多个组合的每个组合,对构成该组合的3个束,运算对构成该组合的上述3个束的各束的第1分配系数,该第1分配系数用于以分配后的各分配剂量的重心位置以及总和与该设计栅格位置以及对该设计栅格照射的预定的剂量一致的方式分配对该设计栅格照射的预定的上述剂量,
按照上述4个以上的束的每个束,运算将对与该束对应的上述第1分配系数进行合计而得到的值除以上述多个组合的数而得到的、相对于该设计栅格的上述4个以上的束的各束的第2分配系数,
使用对各设计栅格照射的预定的上述剂量分别被分配给对应的4个以上的束的多带电粒子束,对试样描绘图案。
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