[发明专利]一种新型搅拌方式电波混响室及混响方法

说明书

本发明公开一种新型搅拌方式电波混响室，外壳的形状为正三棱柱，形成正三棱柱形状的腔；腔内还设有梯形反射体和用于多次改变位置和发射方向以实现混响的天线。本发明还公开一种新型搅拌方式电波混响室混响方法，在正三棱柱形状的腔内设置梯形反射体和天线，多次改变天线的位置和发射方向以实现混响。本发明通过混响室腔体的巧妙设计，充分利用腔体的表面反射与腔体中的梯形反射体反射，结合激励源的改变，使混响室中的电磁场形成统计均匀的测试环境，将混响室的最低可测频率降低到675MHz，采样样本数目降到了20个，起到了很好的优化作用。

技术领域

本发明涉及电磁兼容以及OTA的测试领域，具体涉及一种新型搅拌方式电波混响室及混响方法。

背景技术

电波混响室为一种用途广泛的EMC(Electro Magnetic Compatibility，电磁兼容性检测)和OTA(Over The Air，空中接口测试技术测试)测量设备，它通过不断变化的边界条件，在混响室内部形成统计均匀的测试环境，有着广阔的应用前景。

从搅拌方式上，混响室可以分为机械搅拌混响室(MSRC)、电子搅拌混响室(EMSRC)混响室和固有混响室(IRC)。

机械搅拌混响室是通过机械搅拌器的旋转来改变电磁场边界条件，从而改变腔体中电磁场的驻波模式，在搅拌器旋转一周的时间内使工作区域中的电磁场达到统计均匀的环境。统计均匀的环境需要在搅拌器搅拌一周后才可以形成，这意味着测试时间至少需要搅拌器旋转一周。

电子搅拌混响室(EMSRC)是通过改变本征函数从而使得腔体中的电磁场达到统计均匀。EMSRC包括源搅拌混响室(通过改变激励源实现混响)、频率搅拌混响室(通过改变工作频率来实现混响)两大类。

固有混响室是通过混响室腔体的巧妙设计，充分利用腔体的表面反射与腔体中的散射体反射，使混响室中的电磁场形成统计均匀的测试环境。

其中机械搅拌混响室是应用与研究最成熟的混响室，源搅拌混响室、频率搅拌混响室、固有混响室次之。

在混响室理论中，定义了最低可用频率(Lowest Usable Frequency,LUF)的概念。混响室场均匀性在频率较高时容易满足，因为频率越高，混响室的电尺寸越大，混响室内部的电磁场模式数越多，场均匀性越容易满足。定义了最低可用频率之后，高于LUF的频率范围都可以在混响室中进行测试。混响室的工作区域是指在高于最低可用频率的频段内，混响室内部的满足统计均匀条件的区域，一般用矩形形状来表示，且IEC-61000标准建议工作区域与混响室墙壁以及搅拌器的距离大于四分之一波长。

混响室性能评价一般有两个基本指标，即最低可用频率与周期内采样样本数目。在满足测量要求情况下，最低可用频率越低，采样样本数目越少，混响室的性能越佳。现有技术中的混响室受其最低可用频率大小和采样样本数目影响，可测量范围和测量速度受限。如何进一步优化混响室性能为亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明提出一种新型搅拌方式电波混响室及混响方法，以解决上述问题。

本发明的技术方案为：

本发明提供一种新型搅拌方式电波混响室，外壳的形状为正三棱柱，形成正三棱柱形状的腔；腔内还设有梯形反射体和用于多次改变位置和发射方向以实现混响的天线。

优选地，正三棱柱形状的外壳的底面正三角形的边长为1.6m，正三棱柱的高度为1.7659m。

优选地，电波混响室的工作区域为长方体；

以正三棱柱的一个端点为原点、侧边为X轴、底边为Y轴、与底面平行的轴为Z轴的空间直角坐标系为参考坐标系，所述工作区域的坐标的取值范围为(0.48295～1.28295，0.6～1.0，0.3～0.8)，工作体积为0.16立方米。