[发明专利]光罩运输方法及设备

说明书

本发明提供一种光罩运输方法及设备，该设备包括机械手臂和光罩传输载具，机械手臂与光罩传输载具连接，光罩传输载具用以运输光罩，光罩运输设备还包括微尘净化喷嘴、进气管道及与进气管道连接的净化气体源，微尘净化喷嘴设置于光罩传输载具上，本发明提高了光罩的洁净度，防止了光罩上的图形失真，提升了晶圆产品良率。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，特别涉及半导体集成电路领域，尤其涉及一种光罩运输方法及设备。

背景技术

当进入新世纪，人类生活已经进入了数字时代的领域中，现今许多生活周遭的物品、用具均以数字化高科技产品取而代之，不仅带给人们许多方便，也同时得以享受高科技的文明进步成果，而在数字化的时代中，大多数电器物品、用具都与数字科技有关系甚或直接以高科技IC芯片进行操控，以达自动化目的，所以有人宣称IC芯片为产业之母，而IC芯片是由极精密的集成电路组成，在集成电路工艺中，随着对产量和合格率与日渐增的需求，而发展出高度专业化与自动化的系统来传送光罩。光罩通常存储在光罩库内，且根据不同流程，例如光罩检测流程(IRIS inspection reticle flow path)、光罩区到曝光处理区流程(reticle move to lens flow path)和由内部光罩库去除光罩流程(removal of reticlefrom IRL flow path)等，光罩需要通过机械手臂在各个库与区域间传输。

在半导体制造设施中，微粒和空气传播的分子污染物(AMC)造成了很严重的问题。这些污染物能够导致例如起雾之类的光罩缺陷。而影响晶片良率中最重要的因素其中一项即为光罩是否有遭受到污染，若光罩上出现微尘粒子，会使得受污染的光罩用于半导体微影制程时，会于晶圆上产生相对应的缺陷，所以，为了保持光罩的清洁，一般会于光罩上设置有光罩护膜，以防止微尘粒子沾附在光罩上，而光罩护膜为透过框架支撑而与光罩保持一定距离，使落在光罩上的微尘粒子收集在光罩护膜上，微影制程因光罩护膜产生相当程度成像失真。

现有技术中还可采用光罩清洗方法，其是通过人工方式针对一光罩的表面进行洁净处理。清洁人员将该光罩稳固的置放于一架体上，并通过清洗液，如：丙酮、乙醇及去离子水等，冲洗该光罩表面，同时以一刷具刷除该光罩表面的颗粒物质；接着，再次以该清洗液冲洗该光罩的表面，如此重复数次上述清洁步骤后再对该光罩进行干燥，由此，可去除光罩表面的杂质或残余物，进而确保光罩表面的洁净度，但这些方法是必须将光罩取出清洁，影响生产效率。

中国发明专利(公告号：CN107685047A)公开一种非接触式光罩或晶圆洁净装置，其是在一机体上设有一供承载光罩或晶圆的载台模块，且机体内设有一高压产生模块及一真空鼓风模块，又机体上设有至少一与载台模块相对位移的清洁头，该清洁头对应至少一连通真空鼓风模块的真空腔，该清洁头具有一连通高压气体产生模块的压力腔，且该清洁头设有至少一空气振荡波产生器，如此，能利用喷出的高压气体中具有高频空气振荡波的设计破坏微尘的境界层，使微尘与光罩或晶圆表面剥离，再通过真空方式于微尘被高频空气震荡波分离后抽离，该方法操作繁琐，结构复杂。

中国发明专利(公告号：CN106807654A)公开一种光罩清洗装置，尤指一种供清洗护膜两侧下表面的光罩清洗装置，其由一湿式清洁模块及一干式清洁模块所组成，该湿、干式清洁模块具有可卷动的无尘布条，供利用无尘布条可直接擦拭光罩表面的方式，以能迅速、且有效的去除表面附着的微尘或雾化，能提高后续制程的效率与合格率，再者本发明可进行两阶段清洁，其能在清洁后擦干水分，而不致残留清洁水痕或污渍，有助于提升清洁品质。该方法需要清洁人员于清洗该光罩时需长时间暴露于该清洗液的工作环境下，极易因吸入或直接接触该化学物质，而影响该清洁人员的身体健康，基于上述原因，其确实有必要进一步改良现有技术中的光罩清洁方式。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种光罩运输方法及设备，在光罩运输过程中对光罩进行清洁，避免工作人员直接接触光罩且提高了工作效率。为实现上述技术目的，本发明采取的具体的技术方案为：

一种光罩运输方法，包括如下步骤：