[发明专利]半导体存储装置有效
申请号: | 201810885574.X | 申请日: | 2018-08-06 |
公开(公告)号: | CN109920783B | 公开(公告)日: | 2023-08-25 |
发明(设计)人: | 山崎贵史;菊地伸一 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | H10B80/00 | 分类号: | H10B80/00;H01L23/538;G11C5/10 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 杨林勳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 存储 装置 | ||
1.一种半导体存储装置,其特征在于,具备:
衬底,具有第1区域、第2区域、及位于所述第1区域与所述第2区域之间的第3区域,并且具有导体图案;
控制器,安装在所述第1区域;
半导体存储器零件,安装在所述第2区域,且由所述控制器控制;
第1及第2电容器,安装在所述第3区域,且在从所述第1区域朝向所述第2区域的第1方向上排列;及
第1跨接元件,安装在所述第3区域;且
所述导体图案包含:第1导体部,在所述衬底的厚度方向上与所述第1电容器的至少一部分重叠且电连接在所述第1电容器;及第2导体部,在所述衬底的厚度方向上与所述第2电容器的至少一部分重叠且电连接在所述第2电容器;
所述第1导体部与所述第2导体部在所述第1方向上相互分离,并且利用所述第1跨接元件相互电连接。
2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于,
所述第1跨接元件是使用焊料而固定在所述衬底的表面。
3.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于,
与所述第1方向交叉的第2方向上的所述第1跨接元件的最大宽度比所述第2方向上的所述第1导体部的最大宽度窄,且比所述第2方向上的所述第2导体部的最大宽度窄。
4.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于,
还具备第3电容器,该第3电容器于与所述第1方向交叉的第2方向上与所述第1电容器排列,
所述第1导体部在所述衬底中跨及相对于所述第1电容器的至少一部分在所述衬底的厚度方向上重叠的区域、及相对于所述第3电容器的至少一部分在所述衬底的厚度方向上重叠的区域,且电连接在所述第3电容器。
5.根据权利要求4所述的半导体存储装置,其特征在于,
所述第1跨接元件的至少一部分配置在所述第1电容器与所述第3电容器之间。
6.根据权利要求5所述的半导体存储装置,其特征在于,
还具备第4电容器,该第4电容器在所述第2方向上与所述第2电容器排列,所述第2导体部在所述衬底中跨及相对于所述第2电容器的至少一部分在所述衬底的厚度方向上重叠的区域、及相对于所述第4电容器的至少一部分在所述衬底的厚度方向上重叠的区域,且电连接在所述第4电容器。
7.根据权利要求6所述的半导体存储装置,其特征在于,
所述第1跨接元件的另一部分配置在所述第2电容器与所述第4电容器之间。
8.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于还具备:
第5电容器,安装在所述第3区域,且相对于所述第2电容器在所述第1方向上配置在与所述第1电容器相反之侧;及
第2跨接元件,安装在所述第3区域;且
所述导体图案还包含第3导体部,该第3导体部在所述衬底的厚度方向上与所述第5电容器的至少一部分重叠且电连接在所述第5电容器,
所述第2导体部与所述第3导体部在所述第1方向上相互分离,并且利用所述第2跨接元件相互电连接。
9.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其特征在于还具备:
第6及第7电容器,安装在所述第3区域;及
第3跨接元件,安装在所述第3区域;且
所述衬底具有:第1面,安装着所述第1及第2电容器、以及所述第1跨接元件;及第2面,位于与所述第1面相反之侧,且安装着所述第6及第7电容器、以及所述第3跨接元件;
所述导体图案还包含在所述衬底的厚度方向上分别设置在与所述第1及第2导体部不同的位置的第4导体部及第5导体部,该第4导体部在所述衬底的厚度方向上与所述第6电容器的至少一部分重叠且电连接在所述第6电容器,该第5导体部在所述衬底的厚度方向上与所述第7电容器的至少一部分重叠且电连接在所述第7电容器,
所述第4导体部与所述第5导体部在所述第1方向上相互分离,并且利用所述第3跨接元件相互电连接。
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