[发明专利]光刻机光瞳校正器及其使用方法

权利要求书

1.一种光刻机光瞳校正器，其特征在于：包括滤光元件(1)和致动元件(2)，每个致动元件(2)与至少一个滤光元件(1)相结合，所述的滤光元件(1)是可折叠的，借助所述的致动元件(2)在光瞳面内多维度运动。

2.根据权利要求1所述的光刻机光瞳校正器，其特征在于：所述的滤光元件(1)包括固定机构(101)、牵引机构(102)，以及连接在所述的固定机构(101)和牵引机构(102)之间的挡光机构(103)，所述的固定机构(101)和牵引机构(102)至少一个与所述的致动元件(2)相结合。

3.根据权利要求2所述的光刻机光瞳校正器，其特征在于：所述的挡光机构(103)由一个或多个挡光片(103-1、103-2……)组成，每个挡光片(103-1、103-2……)之间通过连接机构(104)连接。

4.根据权利要求3所述的光刻机光瞳校正器，其特征在于：所述的挡光片(103-1、103-2……)为三角形、矩形、或者扇形。

5.根据权利要求2所述的光刻机光瞳校正器，其特征在于：所述的固定机构(101)和牵引机构(102)相连。

6.根据权利要求5所述的光刻机光瞳校正器，其特征在于：所述的固定机构(101)和牵引机构(102)的相连绞点位于固定机构(101)和牵引机构(102)的端点处、中点处或任意处。

7.根据权利要求1-6任一所述的光刻机光瞳校正器，其特征在于：在所述的致动元件(2)的驱动下，所述的滤光元件(1)沿径向伸缩、沿径向折叠、沿径向卷曲、沿切向折叠、沿切向卷曲、绕所述的滤光元件(1)的旋转轴旋转，或这些动作的任意组合的多个维度的运动。

8.根据权利要求1-6任一所述的光刻机光瞳校正器，其特征在于：所述的滤光元件(1)为八个或十六个。

9.根据权利要求1-6任一所述的光刻机光瞳校正器，其特征在于：放置于光刻机曝光系统的光瞳面，或光瞳面的共轭面，或与这些面存在一定距离的平面处。

10.一种光刻机光瞳校正器的使用方法，其特征在于，包括步骤：

步骤1)在光刻机掩模面或硅片面对所需视场点的光瞳分布进行测量，并计算光瞳特性参数；

步骤2)根据滤光元件(1)的个数，将光瞳分区，并确定各区能量衰减百分比；

步骤3)根据滤光元件(1)的位置与能量衰减百分比的关系式，确定所述的滤光元件(1)所需调整到的位置；

步骤4)在光刻机掩模面或硅片面对所需视场点的光瞳分布再次进行测量，并计算光瞳特性参数：若光瞳特性参数满足要求，则光瞳校正完毕；若光瞳特性参数不满足要求，则对所述的滤光元件(1)的位置进行微调，直至光瞳特性参数满足要求，即完成光瞳校正。

11.根据权利要求10所述的光刻机光瞳校正器的使用方法，其特征在于，步骤3)滤光元件(1)的位置与能量衰减百分比的关系式是在光瞳校正前，通过理论计算或实验标定的方法得到。