[发明专利]光刻机光瞳校正器及其使用方法

说明书

一种光刻机光瞳校正器及其使用方法，其构成包括滤光元件和致动元件，每个致动元件与至少一个滤光元件相结合，所述的滤光元件是可折叠的，借助所述的致动元件在光瞳面内多维度运动。所述的滤光元件包括固定机构、牵引机构，以及连接在所述的固定机构和牵引机构之间的挡光机构，所述的固定机构和牵引机构至少一个与所述的致动元件相结合。在本发明光刻机光瞳校正器使用方法中，通过调整所述滤光元件在光瞳面内的位置，改变能量衰减百分比，将光瞳特性参数校正至满足要求的范围内，从而实现对光瞳能量分布平衡性的校正。

技术领域

本发明涉及光学光刻领域，特别涉及一种光刻机光瞳校正器及其使用方法。

背景技术

光刻机是集成电路制造的一种关键设备，其主要性能参数包括分辨率、焦深和套刻精度等。在光刻机中，为了在提高分辨率的同时增加焦深，诸如离轴照明的光刻机分辨率增强技术被广泛采用。常用的照明模式主要包括传统照明、环形照明、四极照明、二极照明等。评价照明模式的光瞳特性参数主要包括相干因子(内相干因子和外相干因子)、光瞳椭圆度、X方向光瞳平衡性、Y方向光瞳平衡性、四象限光瞳平衡性、极方位角和极张角等。其中，光瞳椭圆度、X方向光瞳平衡性、Y方向光瞳平衡性和四象限光瞳平衡性从不同角度评估光瞳能量分布的平衡性。照明光瞳是引起水平方向和垂直方向线宽差异，及孤立线条和密集线条的线宽差异的主要因素，会影响曝光线宽均匀性。

在先技术“用于补偿不对称光瞳照明的滤光装置”(公开号：CN101088049A)公开了一种用于补偿光瞳能量分布平衡性的滤光装置，其原理是利用滤光元件的遮挡效应来调整光瞳的能量分布。但该装置只能衰减滤光元件所遮挡区域的能量，故其对光瞳平衡性的校正能力较小。虽然可以通过增加滤光元件数目以扩大校正范围，但由于滤光元件所包括的致动部件具有一定的尺寸，此时致动元件的排布难度较大。因此，该装置对光瞳能量平衡性的校正能力有限，结构实现困难。

发明内容

本发明旨在克服上述在先技术的不足，提供一种光刻机光瞳校正器及其使用方法。

本发明的技术解决方案如下：

一种光刻机光瞳校正器，包括滤光元件和致动元件，每个致动元件与至少一个滤光元件相结合，所述滤光元件是可折叠的，借助所述致动元件在光瞳面内多维度运动。

所述滤光元件包括固定机构、牵引机构，以及连接在所述固定机构和牵引机构之间的挡光机构，所述固定机构和牵引机构至少一个与所述致动元件相结合。

所述挡光机构用于衰减通过其的光束能量。所述挡光机构由一个或多个挡光片组成，每个挡光片之间通过连接机构连接。所述挡光片为三角形、矩形、或者扇形。所述挡光片可以为金属片、柔性材料、镀膜玻璃片、偏振片及其他能调整光束能量的元件。

所述固定机构和所述牵引机构具有一定的强度，用于固定、连接或牵引所述挡光机构。当考虑能量利用率时，所述固定机构和牵引机构在光束传播方向上的投影面积应尽可能地小。

所述固定机构和牵引机构相连。所述固定机构和牵引机构的相连绞点位于固定机构和牵引机构的端点处、中点处或任意处。

在所述致动元件的驱动下，所述滤光元件沿径向伸缩、沿径向折叠、沿径向卷曲、沿切向折叠、沿切向卷曲、绕所述滤光元件的旋转轴旋转，或这些动作的任意组合的多个维度的运动。

当所述致动元件与多个所述滤光元件相结合时，利用分时复用技术使所述滤光元件同步或异步运动。所述滤光元件也可以与多个所述致动元件相结合。

本发明光刻机光瞳校正器中包含一个以上所述滤光元件，优选八个或十六个所述滤光元件。

本发明光刻机光瞳校正器放置于光刻机曝光系统的光瞳面，或光瞳面的共轭面，或与这些面存在一定距离的平面处。

一种光刻机光瞳校正器的使用方法，包括步骤：