[发明专利]RPVD绿色镀膜工艺

权利要求书

1.一种RPVD绿色镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、对金属基体进行抛光或拉丝；

步骤二、对金属基体进行除蜡、除油、除锈清洗；

步骤三、将清洗后的工件转入真空炉内，抽气至本底真空后进行辉光清洗或离子源清洗，然后依次采用离子镀沉积第一金属铬层，采用中频磁控溅射沉积第二金属铬层，采用中频磁控溅射沉积CrMe层，采用中频反应溅射沉积CrC/MeC层，其中，Me为Ti、Al、Si中的一种或几种，处理的总时间小于60min, 成膜厚度为0.2-0.4um；

在步骤三中，辉光清洗后，将真空炉腔体回抽至本底真空，再通入惰性气体，使真空度达到0.1～1.0Pa，然后采用离子镀沉积第一金属铬层，沉积时间为1min～5min，靶电流为40A～120A，偏压50-300V，占空比40%～80%，偏压电流为0.1～15.0A；再采用中频磁控溅射沉积第二金属铬层，沉积时间为1min-5min，靶电流为10A～40A，偏压50-300V，占空比40%～80%，偏压电流为0.1～5.0A；

在步骤三中，第二金属铬层沉积后沉积CrMe层2min～10min，真空度为0.1～1.0Pa，靶电流在5A～40A，偏压50-300V，占空比40%～80%，偏压电流在0.1～5.0A；

在步骤三中，CrMe层沉积后回抽至本底真空，再通入氩气和乙炔的混合气体，使真空度达到0.1～1.0Pa，然后沉积CrC/MeC层15-30min，靶电流为5A～30A，偏压50-300V，占空比40%～80%，偏压电流为0.1～5.0A，氩气流量为10-300sccm，乙炔流量为10-400sccm，其中的乙炔流量按一定梯度逐渐增加；

腔体内氩气的流量保持不变而乙炔的流量以若干个梯度增加，每个梯度保持预定的时间，乙炔以5-20sccm为梯度增加;

步骤四、沉积完成后，关闭系统，待炉内降温至100℃以下后通入空气，开炉腔门，将工件出炉；

步骤五、工件出炉降温至室温后，对工件表面进行喷透明漆/粉处理。

2.如权利要求1所述的RPVD绿色镀膜工艺，其特征在于，在步骤三中进行清洗操作时，先将真空炉内抽气至本体真空，真空度为5.0～8.0×10^-3Pa，随后通入惰性气体，在真空度达到1.0Pa～3.0Pa时开启偏压电源对工件表面进行辉光清洗或离子源清洗，辉光清洗时的偏压为500-1500V，占空比为40%～80%，电流为0.1～1.0A。

3.如权利要求1所述的RPVD绿色镀膜工艺，其特征在于，在步骤三中，沉积第一金属铬层采用圆柱电弧铬靶，沉积第二金属铬层采用管状磁控铬靶，沉积CrMe层和CrC/MeC层均采用管状磁控CrMe靶。

4.如权利要求1所述的RPVD绿色镀膜工艺，其特征在于，成膜厚度为0.3um。

5.如权利要求1所述的RPVD绿色镀膜工艺，其特征在于，步骤五中，透明漆选自PU漆、UV漆或者热固化漆中的一种，透明粉末选用热固性粉末。