[发明专利]RPVD绿色镀膜工艺

说明书

本发明公开了一种RPVD绿色镀膜技术，包括以下步骤：步骤一、对金属基体进行抛光或拉丝；步骤二、对金属基体进行除蜡、除油、除锈清洗；步骤三、将清洗后的工件转入真空炉内，抽气至本底真空后进行辉光清洗或离子源清洗，然后依次采用离子镀沉积第一金属铬层，采用中频磁控溅射沉积第二金属铬层，采用中频磁控溅射沉积CrMe层，采用中频反应溅射沉积CrC/MeC层；步骤四、沉积完成后，将工件出炉；步骤五、工件降温至室温后，表面进行喷透明漆/粉处理。本发明将四步沉积相结合，在金属基体表面通过较短时间形成厚度及颜色均匀的黑色涂层，易控制，生产工艺稳定，良品率高，能够满足没有废水排放的要求，达到环境友好的积极效果。

技术领域

本发明涉及表面处理技术领域，尤其涉及一种采用真空镀黑色涂层的RPVD绿色镀膜技术。

背景技术

随着国家对电镀污染控制的提高和人民环保意识的增强，目前传统水电镀行业正面临着重新整顿和技术革新。与此同时，一些新的环保型表面处理技术正迅速发展，产品已能够做到与传统水电镀一样甚至还要优异的性能效果。

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition简称PVD)技术作为一种零污染且日趋成熟的表面处理工艺已广泛应用于太阳能、刀具、五金、电子等行业。深黑色涂层不论作为单一装饰涂层，还是作为复合装饰涂层中的一种颜色都有着广泛的应用。目前常用的黑色装饰涂层工艺多采用TiC、CrC、TiNC、DLC等，沉积时间在70min-120min不等，其中TiC是最常见、最经济的一种黑色涂层，颜色可以做到较深，但色调不够纯正，黑中略带黄色；CrC黑色涂层总体色调优于TiC涂层，但其膜层应力较大；TiCN黑色涂层颜色较TiC更黑，防指纹能力也很好，但触感不够光滑；DLC涂层颜色纯正，硬度也较高，但其沉积速率缓慢。

因此，本领域的技术人员致力于提供一种颜色黑度深且纯正、膜层沉积速度快的真空镀膜方法，即一种绿色环保的RPVD(Rapid Physical Vapor Deposition)镀膜技术。

发明内容

有鉴于现有技术的上述缺陷，本发明所要解决的技术问题是现有技术中表面涂层沉积速率慢且色调不纯的缺点。

为实现上述目的，本发明提供了一种RPVD(Rapid Physical Vapor Deposition)绿色镀膜技术，该方法包括以下步骤：

步骤一、对金属基体进行抛光或拉丝；

步骤二、对金属基体进行除蜡、除油、除锈清洗；

步骤三、将清洗后的工件转入真空炉内，抽气至本底真空后进行辉光清洗或离子源清洗，然后依次采用离子镀沉积第一金属铬层，采用中频磁控溅射沉积第二金属铬层，采用中频磁控溅射沉积CrMe层，采用中频反应溅射沉积CrC/MeC层，其中，Me为Ti、Al、Si中的一种或几种；

步骤四、沉积完成后，关闭系统，待炉内降温至100℃以下后通入空气，开炉腔门，将工件出炉。

步骤五、工件出炉降温至室温后，对工件表面进行喷透明漆/粉处理。

进一步地，在步骤三中进行清洗操作时，先将真空炉内抽气至本体真空，真空度为5.0～ 8.0×10^-3Pa，随后通入惰性气体，在真空度达到1.0Pa～3.0Pa时开启偏压电源对工件表面进行辉光清洗或离子源清洗，辉光清洗时的偏压为500-1500V，占空比为40％～80％，电流为0.1～ 1.0A。