[发明专利]感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法在审

专利信息
申请号: 201810899848.0 申请日: 2018-08-09
公开(公告)号: CN109388023A 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 丸山仁;近藤和纪 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/16
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杜丽利
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 感光性树脂涂层 感光性树脂组合物 感光性干膜 图案形成 层合体 光致产酸剂 有机硅树脂 精细图案 耐开裂性 保护膜 膜性质 厚膜 基底 加工 改进
【权利要求书】:

1.感光性树脂组合物,其包含(A)包含具有式(a1)的重复单元和具有式(b1)的重复单元的有机硅树脂、(B)填料和(C)光致产酸剂,

其中,R1至R4各自独立地为C1-C8一价烃基,m和n各自独立地为0至300的整数,X1为具有式(1)的二价基团:

其中,Y1为单键或选自以下基团的二价有机基团:

-CH2-、

R11各自独立地为氢或甲基,R12和R13各自独立地为C1-C4直链、支链或环状的烷基或C1-C4直链、支链或环状的烷氧基,a各自独立地为0至7的整数,b和c各自独立地为0至2的整数。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中所述有机硅树脂另外包含具有式(a2)的重复单元和具有式(b2)的重复单元:

其中,R1至R4、m和n如上文所定义,X2为具有式(2)的二价基团:

其中,Y2为单键或选自以下基团的二价有机基团:

-CH2-、

R21各自独立地为氢或甲基,R22和R23各自独立地为C1-C4直链、支链或环状的烷基或C1-C4直链、支链或环状的烷氧基,d各自独立地为0至7的整数,e和f各自独立地为0至2的整数。

3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中所述有机硅树脂另外包含具有式(a3)的重复单元和具有式(b3)的重复单元:

其中,R1至R4、m和n如上文所定义,X3为具有式(3)的二价基团:

其中,R31各自独立地为氢或甲基,并且g各自独立地为0至7的整数。

4.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中所述有机硅树脂另外包含具有式(a4)的重复单元和具有式(b4)的重复单元:

其中,R1至R4、m和n如上文所定义,X4为具有式(4)的二价基团:

其中,Z1为二价有机基团,R41各自独立地为氢或其中至少一个氢可以被卤素取代的C1-C8一价烃基,R42各自独立地为C1-C8直链、支链或环状的亚烷基,RX各自独立地为单键或能够与RXX键合以形成环结构的基团,RXX各自独立地为氢或C1-C8一价烃基,或者当其与RX键合以形成环结构时,RXX为C1-C10二价烃基,或者为单键。

5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中所述有机硅树脂另外包含具有式(a5)的重复单元和具有式(b5)的重复单元:

其中,R1至R4、m和n如上文所定义,X5为具有式(5)的二价基团:

其中,R51各自独立地为氢或甲基,R52和R53各自独立地为C1-C8一价烃基,j和k各自独立地为0至300的整数,并且h各自独立地为0至7的整数。

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