[发明专利]感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法

说明书

本发明为感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法。将包含(A)包含具有式(a1)的重复单元和具有式(b1)的重复单元的有机硅树脂、(B)填料和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基底上，以形成感光性树脂涂层，所述感光性树脂涂层可以被加工成厚膜形式的精细图案，具有改进的膜性质如耐开裂性并且可靠地作为保护膜。

相关申请的交叉引用

本非临时申请在美国法典第35卷第119节(a)款下要求2017年8月9日于日本提交的第2017-153901号专利申请的优先权，所述专利申请的全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜和使用所述组合物或干膜的图案形成方法以及使用所述涂层的层合体。

背景技术

在现有技术中，用于半导体器件的感光性保护膜和用于多层印刷电路板的感光性绝缘膜由感光性聚酰亚胺组合物、感光性环氧树脂组合物、感光性有机硅组合物等形成。作为用于保护这样的基底和电路的感光性材料，专利文献1公开了感光性有机硅组合物。该感光性有机硅组合物在低温时可固化并且形成涂层，所述涂层是柔性的并且在耐湿粘合性和其它性质方面完全可靠，但是较不耐化学品如具有高溶解力的光致抗蚀剂剥离剂，典型地为N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)。

为了克服该问题，专利文献2提出了基于含硅亚苯基(silphenylene)结构的有机硅聚合物的感光性有机硅组合物。该组合物在针对光致抗蚀剂剥离剂的耐化学品性等方面得以改进，但是仍然具有经固化的涂层在热循环测试(在-25℃保持10分钟并且在125℃保持10分钟的测试重复1,000个循环)中从基底剥离或开裂的问题。这样的树脂组合物的可靠性需要进一步改进。

引用列表

专利文献1：JP-A 2002-088158(USP 6,590,010,EP 1186624)

专利文献2：JP-A 2008-184571(USP 7,785,766,EP 1953183)

发明内容

本发明的目的在于提供含感光性树脂组合物，感光性树脂涂层，和感光性干膜，它们形成树脂涂层或树脂层，所述树脂涂层或树脂层可以以厚膜形式加工从而限定细尺寸的图案，具有改进的膜性质，所述膜性质包括耐开裂性与对用于电子部件及半导体器件的基底和用于电路板的支持体的粘合性，并且因此作为电气及电子部件的保护膜和用于接合基底的膜是可靠的。另一目的在于提供使用前述物质的层合体和图案形成方法。

发明人已发现，上述目的和其它目的通过包含(A)特定的有机硅树脂、(B)填料和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物得以实现。

在一个方面，本发明提供了感光性树脂组合物，其包含(A)包含具有式(a1)的重复单元和具有式(b1)的重复单元的有机硅树脂、(B)填料和(C)光致产酸剂。

其中，R¹至R⁴各自独立地为C₁-C₈一价烃基，m和n各自独立地为0至300的整数，X¹为具有式(1)的二价基团:

其中，Y¹为单键或选自以下基团的二价有机基团：

-CH₂-、