[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

第一部件，其在与载置面相反的背面侧的与所述载置面对应的范围内形成有凹部，其中，所述载置面用于载置作为等离子体处理对象的被处理体，所述凹部具有与所述载置面平行的底面和包围所述底面的侧面；

片部件，其形成为片状，设置有加热件和用于对该加热件供给电力的引出配线，所述片部件以所述加热件位于所述凹部的所述底面上的与载置面对应的区域且所述引出配线位于所述凹部的所述侧面的方式配置在所述凹部内；和

第二部件，其与配置了所述片部件的所述凹部嵌合。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第二部件在与所述凹部的侧面相对的面形成有连通到与所述凹部相反的背面侧的槽或者贯通孔，

所述片部件形成有加热部分和配线部，所述加热部分设置有所述加热件，形成为所述凹部的内部的与所述载置面对应的区域的尺寸，所述配线部设置有所述引出配线且从该加热部分伸出，所述配线部以通过所述第二部件的所述槽或者所述贯通孔的方式配置。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第一部件形成为以所述载置面为底面的圆筒状，

所述等离子体处理装置还具有沿所述第一部件的外周面设置的用于载置聚焦环的载置台。

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述载置台在用于载置所述聚焦环的载置面设置有加热件。

5.如权利要求1至3中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第二部件在内部形成有制冷剂流路。

6.如权利要求1至4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述凹部的内径大于载置所述被处理体的所述载置面的外径。