[发明专利]一种高阻膜及其制备工艺和应用

权利要求书

1.一种高阻膜，其特征在于，由以下组分组成：氧化锌、氧化锡和氧化铝。

2.根据权利要求1所述的一种高阻膜，其特征在于：所述氧化锌、氧化锡和氧化铝的质量比为4-5:2-3:1-2。

3.一种高阻膜，其特征在于，由以下组分组成：氧化锌、氧化锡、氧化铝、表面活性剂和交联剂。

4.根据权利要求3所述的一种高阻膜，其特征在于，以质量份计，由以下组分组成：氧化锌80-90份、氧化锡40-60份、氧化铝10-20份、表面活性剂10-15份和交联剂5-15份。

5.根据权利要求3所述的一种高阻膜，其特征在于，以质量份计，由以下组分组成：氧化锌85份、氧化锡45份、氧化铝15份、表面活性剂12份和交联剂8份。

6.根据权利要求1或2所述的一种高阻膜，其特征在于：所述高阻膜通过真空溅射法设于玻璃基板上，包括第一层薄膜和第二层薄膜，所述第一层薄膜为氧化锌和氧化铝膜层，所述第二层薄镀膜为氧化锡膜层。

7.根据权利要求5所述的一种高阻膜，其特征在于：所述第一层薄膜的厚度为5nm-30nm；所述第一层薄膜的厚度为2nm-10nm。

8.基于权利要求1或2所述的一种高阻膜的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：

采用纯度为99.99％氧化锡靶材，在50-200℃的玻璃基板上，通过溅射法真空镀镀10-30分钟，形成厚度为2nm-10nm的薄膜；

取质量比为4-5:1-2的氧化锌和氧化铝混合纳米级靶材，在50-200℃的玻璃基板上，通过溅射法真空镀10-30分钟，形成厚度为5nm-30nm的薄膜。

9.根据权利要求7所述的一种高阻膜的制备工艺，其特征在于，溅射法真空镀的真空条件为100-200℃；传动速度为0.5-1.5m/min；沉积速度为10-30nm/min。

10.根据权利要求7所述的一种高阻膜的制备工艺，其特征在于，溅射法真空镀采用的工艺气体为：Ar:300-600Hccm；O2:50-100Hccm；N2:20-100Hccm。

11.基于权利要求1或2所述的一种高阻膜的应用，其特征在于，所述高阻膜被应用于液晶显示屏上。