[发明专利]TFT用玻璃基板在审
申请号: | 201810902930.4 | 申请日: | 2018-08-09 |
公开(公告)号: | CN109387967A | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 小野良贵;井川信彰;伊贺元一;榉田昌也 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1362 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 主面 玻璃板 玻璃基板 大型的 板厚 矩形玻璃板 板厚方向 板厚公差 玻璃基 结构体 邻接 视野 观察 | ||
本发明提供一种TFT用玻璃基板,其能够更高精度地和/或快速地形成元件或结构体。TFT用玻璃基板(1)由具备第1主面(11)和与第1主面(11)相反的第2主面(12)的矩形玻璃板(10)构成,其为大型的玻璃板(10),在从玻璃板(10)的板厚方向进行观察的视野中,所述大型的玻璃板(10)具备第1主面(11)、与第1主面(11)相反的第2主面(12)、连接第1主面(11)与第2主面(12)的第1边(13)、以及与第1边(13)邻接的第2边(14),并且第1边(13)和第2边(14)的长度为至少1200mm以上。作为第1截面(15)中的玻璃板(10)的板厚W的最大值Wmax与板厚W的最小值Wmin值之差的板厚公差小于6.26μm。
技术领域
本发明涉及TFT用玻璃基板。
背景技术
以往,液晶显示器等平板显示面板通过使在表面形成有微细的电极或间隔物等元件或者结构体的两块玻璃基板相对设置而制作。应用如下所述的薄膜晶体管(TFT,ThinFilm Transistor)的制造工艺已经成为惯例:对于平板显示面板用的玻璃基板,在其表面上均匀地涂布各种膜,然后使用光学加工的方法进行曝光、显影,由此在该玻璃基板上形成元件或结构体。作为用于该工艺的玻璃基板,例如,在专利文献1中公开了一种玻璃基板,其为300mm×300mm以上的玻璃板,并且基准点处的板厚与以基准点为中心沿X和/或Y方向各自离开20mm的位置处的板厚之差的绝对值为3μm以下。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-155136号公报
发明内容
发明所要解决的问题
目前,要求在玻璃基板上更高精度地和/或快速地形成元件或结构体,但是尚未达到充分的水平。
本发明提供一种TFT用玻璃基板,其能够更高精度地和/或快速地形成元件或结构体。
用于解决问题的手段
本发明的TFT用玻璃基板由具备第1主面和与前述第1主面相反的第2主面的矩形玻璃板构成,在从前述玻璃板的板厚方向进行观察的视野中,前述玻璃板具有相互邻接的第1边和第2边,前述第1边和前述第2边的长度为至少1200mm以上,在前述玻璃板的板厚方向的截面中的、沿着与前述第1边平行的直线的第1截面中,作为该玻璃板的板厚的最大值与板厚的最小值之差的板厚公差小于6.26μm。
发明效果
根据本发明,可以提供一种TFT用玻璃基板,其具有在例如TFT生产线中的曝光工序中容易对准焦点,适合于TFT制造,并且板厚公差小且大型的玻璃板。
附图说明
图1示出本发明的TFT用玻璃基板的第1实施方式的一个例子,图1的(a)示出正面透视图,(b)示出(a)的A-A剖视图,(c)示出(b)的B部放大示意图。
图2为示出本发明的TFT用玻璃基板的浮法玻璃制造装置的一个例子的示意图。
图3为示出在本发明的TFT用玻璃基板的制造中产生的凸部的示意图。
图4具体地示出图3的凸部,图4的(a)是玻璃板的正面透视图,(b)是示出凸部的蚀刻状态的说明图。
图5为示出本发明的TFT用玻璃基板的浮法玻璃制造装置内设置的喷射器的示意图。
图6是作为在玻璃板的宽度方向上长的喷射器的喷杆(ビーム)的示意图,图6的(a)为喷杆的整体结构图,(b)~(d)各自为示出三个气体系统中的HF气体的流动的示意图。
图7为实际测量本发明的TFT用玻璃基板和比较例的第1截面中的板厚公差并进行作图而得到的图。
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