[发明专利]研磨料的处理方法

权利要求书

1.一种研磨料的处理方法，其特征在于，包括如下分选步骤：

提供待处理的研磨料，以质量百分含量计，所述待处理的研磨料为含有15％以内的粒径在28μm以上的碳化硅研磨料；或为含有12％以内的粒径在10μm以上的碳化硅研磨料；或为含有12％以内的粒径在5μm以上的刚玉研磨料；

将所述研磨料和水混合，得到原液，所述研磨料和水的质量体积比为1220g:(9.5～10)L；

将絮凝剂和所述原液混合，静置沉降，得悬浮液，在沉降时间内收集液表面至沉降面之间的所述悬浮液，脱水得处理后的研磨料，所述液表面至沉降面的距离不超过所述悬浮液总高度的4/5；

当所述待处理的研磨料为含有15％以内的粒径在28μm以上的碳化硅研磨料时，所述沉降时间为4～5分钟；

当所述待处理的研磨料为含有12％以内的粒径在10μm以上的碳化硅研磨料时，所述沉降时间为18～20分钟；

当所述待处理的研磨料为含有12％以内的粒径在5μm以上的刚玉研磨料时，所述沉降时间为72～80分钟；

其中，当所述待处理的研磨料为含有15％以内的粒径在28μm以上的碳化硅研磨料或为含有12％以内的粒径在10μm以上的碳化硅研磨料时，所述絮凝剂为水玻璃；

当所述待处理的研磨料为含有12％以内的粒径在5μm以上的刚玉研磨料时，所述絮凝剂为浓盐酸；

采用显微镜分析法对脱水后的研磨料进行检验；

所述采用显微镜分析法对脱水后的研磨料进行检验的步骤包括：

将18g～20g脱水后的研磨料均匀铺设在40mm×40mm的取样纸上；

将铺设有研磨料的取样纸分成10mm×10mm的方格，从每个方格中取出同等质量的研磨料，直至研磨料的总量为5g～7g；

将取出的研磨料混合后铺设成粉末带；

将所述粉末带沿长度方向均匀分成7～8份，取出偶数段的研磨料，将剩余研磨料混合，重复进行铺设成粉末带和取出偶数段研磨料的步骤，直至剩余研磨料的总量为0.5g～1.0g，得到检验样品；

在载物玻璃上滴加甘油，挑取所述检验样品与所述甘油混合，得到含研磨料的甘油；

在所述含研磨料的甘油上覆盖玻片，并缓慢移动，使所述含研磨料的甘油在所述载物玻璃和所述玻片之间形成均匀的甘油层；

采用显微镜进行检验，若检验不合格，则重复所述分选步骤，直至检验合格。

2.根据权利要求1所述的研磨料的处理方法，其特征在于，所述水玻璃与所述原液的质量体积比为0.5g:1L。

3.根据权利要求1所述的研磨料的处理方法，其特征在于，所述浓盐酸与所述原液的体积为2.6mL:1L。

4.根据权利要求1所述的研磨料的制备方法，其特征在于，所述粉末带的长度为7cm～8cm，宽度为1cm。

5.根据权利要求4所述的研磨料的制备方法，其特征在于，所述采用显微镜进行检验时，显微镜的物镜放大40倍，目镜放大7倍。