[发明专利]一种烧结炉及其使用方法

权利要求书

1.一种烧结炉，包括烧结炉本体，所述烧结炉本体包括依次连通的烘干区(8)、烧结区(7)和冷却区(6)，烧结炉本体内设有依次贯穿烘干区(8)、烧结区(7)和冷却区(6)的传送网带(1)，传送网带(1)的上下两侧的烧结炉本体内分别设有加热管(2)，其特征在于，所述烘干区(8)和烧结区(7)内分别分成若干个加热温区(10)，每个加热温区(10)内分别设有若干个与外界气源连通的第一进气管道(3)，所述第一进气管道(3)等间距设置，烘干区(8)的两端以及烧结区(7)的两端分别设有废气排风管道(4)；所述废气排风管道(4)上设有抽风机(9)。

2.根据权利要求1所述的一种烧结炉，其特征在于，所述冷却区(6)内分别设有若干个与外界气源连通的第二进气管道(5)。

3.根据权利要求1所述的一种烧结炉，其特征在于，所述加热温区(10)内设有9个第一进气管道(3)，第一进气管道(3)分成等间距的3列设置在加热温区(10)内，每列上的第一进气管等间距设置。

4.一种如权利要求1-3任一所述烧结炉的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将硅片放入本发明的烧结炉本体的烘干区(8)内的传送网带(1)上，启动烧结炉本体内的加热管(2)，把烘干区(8)内的温度设置成350-450℃，把烧结区(7)内的温度设置成600-900℃，把冷却区(6)内的温度设置成10-20℃；

(2)当步骤(1)的硅片经过传送网带(1)进入到烘干区(8)内时，通过烘干区(8)的第一进气管道(3)向烘干区(8)内通入氮气与氧气的混合气体；并同时启动烘干区(8)两端的废气排风管道(4)上的抽风机(9)；

(3)当步骤(2)的硅片经过传送网带(1)进入到烧结区(7)内时，通过烧结区(7)的第一进气管道(3)向烧结区(7)内通入氮气与氧气的混合气体；并同时启动烧结区(7)两端的废气排风管道(4)上的抽风机(9)；

(4)当步骤(3)的硅片经过传送网带(1)进入到冷却区(6)内时，通过冷却区(6)的第一进气管道(3)向冷却区(6)内通入氮气与氧气的混合气体。

5.根据权利要4所述的烧结炉的使用方法，其特征在于，所述步骤(2)中，通入的氮气与氧气的混合气体中，氧气含量为5-20％。

6.根据权利要4所述的烧结炉的使用方法，其特征在于，所述步骤(3)中，通入的氮气与氧气的混合气体中，氧气含量为45-65％。

7.根据权利要4所述的烧结炉的使用方法，其特征在于，所述步骤(4)中，通入的氮气与氧气的混合气体中，氧气含量为15-25％。