[发明专利]图案化结构的制作方法

权利要求书

1.一种图案化结构的制作方法，包括：

在材料层上形成第一图案转移层；

在该第一图案转移层上形成第二图案转移层；

对该第二图案转移层进行第一图案化制作工艺，其中该第二图案转移层的一部分被该第一图案化制作工艺图案化而成为第一图案；

在该第一图案的侧壁上形成第一间隙壁；

在形成该第一间隙壁之后，对该第一图案转移层进行第二图案化制作工艺，其中该第一图案化转移层被该第二图案化制作工艺图案化而成为第二图案与第三图案，且该第二图案形成于该材料层与该第一图案之间；

形成覆盖层覆盖该第一图案、该第一间隙壁、该第二图案以及该第三图案；

移除一部分的该覆盖层，用以暴露出该第一图案与该第一间隙壁；

移除该第一间隙壁；以及

在移除该第一间隙壁之后，以该第一图案以及该覆盖层为掩模，对该第一图案转移层进行第三图案化制作工艺，其中该第二图案被该第三图案化制作工艺图案化而成为第四图案。

2.如权利要求1所述的图案化结构的制作方法，还包括：

进行第四图案化制作工艺，用以将该第四图案与该第三图案转移至该材料层。

3.如权利要求1所述的图案化结构的制作方法，其中该第二图案与该第三图案彼此互相分离。

4.如权利要求1所述的图案化结构的制作方法，其中该第二图案与该第三图案彼此相连。

5.如权利要求4所述的图案化结构的制作方法，其中该第三图案被该第三图案化制作工艺图案化而成为第五图案。

6.如权利要求5所述的图案化结构的制作方法，还包括：

将该第四图案与该第五图案转移至该材料层。

7.如权利要求1所述的图案化结构的制作方法，其中该材料层形成于基底上，该基底上定义有第一区与第二区，且该第一图案形成于该第一区上。

8.如权利要求7所述的图案化结构的制作方法，其中该第一图案转移层与该第二图案转移层形成于该第一区与该第二区上，且该第二图案转移层的一部分被该第一图案化制作工艺图案化而成为第六图案形成于该第二区上。

9.如权利要求8所述的图案化结构的制作方法，还包括：

在该第六图案的侧壁上形成第二间隙壁，其中该第一间隙壁与该第二间隙壁一并形成。

10.如权利要求9所述的图案化结构的制作方法，还包括：

移除该第六图案；以及

在移除该第六图案之后，以该第二间隙壁为掩模，对位于该第二区上的该第一图案化转移层进行一第五图案化制作工艺，其中位于该第二区上的该第一图案化转移层被该第五图案化制作工艺图案化而成为一第七图案。

11.如权利要求10所述的图案化结构的制作方法，其中该第五图案化制作工艺于该第二图案化制作工艺之前进行。

12.如权利要求10所述的图案化结构的制作方法，其中该第五图案化制作工艺于该第三图案化制作工艺之后进行。

13.如权利要求10所述的图案化结构的制作方法，还包括：

对该第七图案进行第六图案化制作工艺，其中该第七图案被该第六图案化制作工艺图案化而成为第八图案。

14.如权利要求13所述的图案化结构的制作方法，其中该第六图案化制作工艺于该第二图案化制作工艺之前进行。

15.如权利要求13所述的图案化结构的制作方法，其中该第六图案化制作工艺于该第三图案化制作工艺之后进行。