[发明专利]一种多羟基倍半硅氧烷的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810929844.2 申请日: 2018-08-15
公开(公告)号: CN108948073B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 黄玉东;王昱璎;刘丽;贺金梅;张润泽;吴帆 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C07F7/21 分类号: C07F7/21
代理公司: 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 代理人: 高媛
地址: 150000 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 羟基 倍半硅氧烷 制备 方法
【说明书】:

一种多羟基倍半硅烷的制备方法,属于POSS制备技术领域。所述的方法如下:称取正硅酸四乙酯和四甲基氢氧化铵,溶解在乙醇水溶液中,再滴加正硅酸四乙酯;将混合溶液放置在25℃下反应24h,升温至60℃反应6h,反应后自然冷却至室温;将产物旋蒸浓缩,冷却结晶过滤,沉淀烘干得到八聚四甲基铵POSS铵盐;称取八聚四甲基铵POSS铵盐和蒸馏水并混合,调节pH=1;溶液经过旋蒸浓缩得到透明粘稠状液体,烘干,洗涤产物,即得到多羟基倍半硅烷。本发明的优点是:本发明合成反应时间短,易操作,反应条件温和,同时该材料活性反应基团可以与聚合物分子链发生交联,增强POSS与材料基体的相容性,一定程度上增强聚合物的耐热性和抗冲击性。

技术领域

本发明属于POSS制备技术领域,具体涉及一种多羟基倍半硅氧烷的制备方法。

背景技术

多面低聚倍半硅氧烷(简称POSS)是一种纳米尺度笼状结构的化合物,又称立方硅烷,分子通式为(RSiO1.5)n,基本结构单元是—Si—O—,整个分子的尺度在1~3nm之间,是最小的硅颗粒。其分子以硅氧骨架为核心,八个Si顶点处连接有机取代基团,无机的硅氧骨架能够赋予材料良好的耐热和机械性能,外围的有机基团设计为反应性基团如烯烃基、硅醇基、丙烯酰氧基等,通过反应性基团可将POSS与有机聚合物进行表面键和、接枝、共聚等反应,结合纳米尺寸效应,使得POSS改性的高分子聚合物具有良好的性能。

目前,国内外相关报道的多官能化基团POSS合成多集中于Tn形式,采用三氯(甲氧基,乙氧基)有机硅烷在溶剂条件下水解缩合获得,该过程周期很长,产量及效率很低,副产物多且分离纯化相对困难。采用QxMy形式合成八聚四甲基铵POSS铵盐,再经过一步取代,将羟基基团直接连接在顶角Si处的POSS合成的文献和专利至今还未见报道。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有的多羟基POSS的合成方法存在效率低与产品提纯过程困难的问题,提供一种多羟基倍半硅氧烷的制备方法,该方法具有反应条件温和、能耗低、合成效率高、产物纯度高、过程简单易行等优点。

为实现上述目的,本发明采取的技术方案如下:

一种多羟基倍半硅氧烷的制备方法,所述的方法步骤如下:

步骤一:按照1:1的摩尔比称取正硅酸四乙酯和四甲基氢氧化铵,然后将四甲基氢氧化铵溶解在乙醇水溶液中,得到0.08~0.2g/mL的四甲基氢氧化铵溶液,再滴加正硅酸四乙酯,其中,所述的乙醇水溶液中乙醇和水的体积比为8:1;

步骤二:在搅拌条件下,将步骤一得到的混合溶液放置在25℃下反应24h,然后升温至60℃反应6h,反应结束后,自然冷却至室温;

步骤三:将步骤二得到的产物通过旋蒸浓缩至剩余三分之一的体积,于25℃室温下冷却结晶过滤,用丙酮沉淀,沉淀在45℃下烘干1h,得到八聚四甲基铵POSS铵盐;

步骤四:按照1:20的质量体积比称取步骤三制得的八聚四甲基铵POSS铵盐和蒸馏水,然后将八聚四甲基铵POSS铵盐溶解在蒸馏水中,逐滴滴加1mol/LHCl标准溶液直至溶液pH=1为止;

步骤五:溶液经过旋蒸浓缩得到透明粘稠状液体,在45℃烘箱中烘干6h,产物变为白色粉末状,用蒸馏水洗涤产物,即得到多羟基倍半硅氧烷。

本发明相对于现有技术的有益效果是:本发明采用QxMy的形式合成了一种含有多羟基基团POSS,以倍半硅氧烷POSS为核,连接多个活性羟基基团,合成反应时间短,易操作,反应条件温和,同时该材料活性反应基团可以与聚合物分子链发生交联,增强POSS与材料基体的相容性,一定程度上增强聚合物的耐热性和抗冲击性。多官能活性的POSS在聚合物改性方面独特的结构优势使其具有潜在的应用价值。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学,未经哈尔滨工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810929844.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top