[发明专利]电解抛光液以及加工金属的制造方法

权利要求书

1.一种抛光液，其是金属用电解抛光液，其中，至少含有以下(1)～(2)的成分：

(1)选自无机磺酸、有机磺酸以及它们的盐中的至少一种；

(2)选自一元及多元醇中的至少一种，

所述电解抛光液实质上不含氮以及磷，pH小于2。

2.根据权利要求1所述的抛光液，其含有选自羧酸、羟基羧酸以及它们的盐中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的抛光液，其中，

所述羧酸、羟基羧酸以及它们的盐为草酸、丙二酸、乙醇酸、葡萄糖酸、酒石酸、柠檬酸、苹果酸、乙酸或它们的盐、或者这些酸及这些盐的组合。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的抛光液，其中，

所述无机磺酸、有机磺酸以及它们的盐的总含量为200～1000g/L。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的抛光液，其中，

氮以及磷的总含量为0.001重量％以下。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的抛光液，其中，

所述无机磺酸、有机磺酸以及它们的盐为甲烷磺酸、乙烷磺酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、对苯酚磺酸、乙烯基磺酸、10-樟脑磺酸或它们的盐、或者这些酸及这些盐的组合。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的抛光液，其中，

所述一元及多元醇为甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、叔丁醇、乙二醇、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、二乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、聚乙二醇、甘油、或者它们的组合。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的抛光液，其中，

所述一元及多元醇的总含量为200～1200g/L。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的抛光液，其中，

所述羧酸、羟基羧酸以及它们的盐的总含量为0.1～20g/L。

10.一种方法，其是加工金属的制造方法，其中，包括使用权利要求1～9中任一项所述的抛光液来对金属进行电解抛光的工序。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，

所述金属为选自铁、铁合金、不锈钢、铝、铝合金、镁、镁合金、铜、铜合金中的至少一种以上。

12.根据权利要求10或11所述的方法，其中，

所述进行电解抛光的工序在以下的条件下实施：

温度：10℃～80℃，

电流密度：1A/dm²～300A/dm²，

时间：15秒～20分钟。