[发明专利]电解抛光液以及加工金属的制造方法在审

专利信息
申请号: 201810931207.9 申请日: 2018-08-15
公开(公告)号: CN109778295A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 长沢壮平;香取光臣;白川周平 申请(专利权)人: 日本表面化学株式会社
主分类号: C25F3/16 分类号: C25F3/16
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电解抛光液 金属 有机磺酸 多元醇 抛光液 磺酸 加工 制造
【说明书】:

本发明提供一种实质上不含磷以及氮的电解抛光液。该电解抛光液是金属用电解抛光液,其中,至少含有以下(1)~(2)的成分:(1)选自无机磺酸、有机磺酸以及它们的盐中的至少一种;(2)选自一元及多元醇中的至少一种,所述电解抛光液实质上不含氮以及磷,pH小于2。

技术领域

本发明涉及一种电解抛光液以及加工金属的制造方法。更具体而言,涉及一种抑制了磷以及氮的含量的电解抛光液以及使用了该电解抛光液的加工金属的制造方法。

背景技术

作为对金属的表面进行加工的手段,有电解抛光、化学抛光、磨光等手段。其中,电解抛光是通过电化学方法进行抛光的手段。具体而言,将加工对象的金属作为阳极,经由电解液在与阴极之间流过直流电流。由于在表面的顶部(凸部)优先流过电流,因此,优先进行溶解,其结果是增进平滑化。

在日本特开2017-36469号中,作为对不锈钢的表面进行电解抛光的电解液,公开了一种含有一元醇和多元醇中的至少一种以及磷酸的酸性水溶液。在日本特开2014-47393号中,作为对不锈钢的表面进行电解抛光的电解液,公开了一种在柠檬酸盐中添加了多元醇的中性电解液。在日本特开2008-196047号中,作为用于铜等导电性物质的电解抛光的电解液,公开了一种含有有机酸等具有磺酸基的强酸等、腐蚀抑制剂、水溶性高分子化合物的电解液。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2017-36469号

专利文献2:日本特开2014-47393号

专利文献3:日本特开2008-196047号

发明所要解决的问题

在以往的电解抛光中,出于赋予粘性或抑制腐蚀等目的,使用了含有磷或氮的化合物。例如,在专利文献1中公开了出于赋予粘性的目的而使用磷酸。然后,在专利文献3中公开了苯并三唑等作为腐蚀抑制剂。当磷以及氮大量存在于环境中时,可能会引起浮游生物的繁殖。因此,也有国家将磷以及氮指定为限制对象。近年来,出于降低对环境的影响的目的,对抑制了含有氮、磷的试剂的使用的电解抛光液的需求逐渐增高。

发明内容

鉴于以上观点,本发明的目的在于提供一种实质上不使用氮、磷的电解抛光液以及使用了该电解抛光液的加工金属的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明人等进行了深入研究,结果发现了如下事实:通过将特定的成分以及条件组合,即使不使用含氮化合物、含磷化合物,也能进行充分的电解抛光。

基于这样的见解,本发明如下特定。

(发明1)

一种抛光液,其是金属用电解抛光液,其中,至少含有以下(1)~(2)的成分:

(1)选自无机磺酸、有机磺酸以及它们的盐中的至少一种;

(2)选自一元及多元醇中的至少一种,

所述电解抛光液实质上不含氮以及磷,pH小于2。

(发明2)

根据发明1所述的抛光液,其含有选自羧酸、羟基羧酸以及它们的盐中的至少一种。

(发明3)

根据发明2所述的抛光液,其中,

所述羧酸、羟基羧酸以及它们的盐为草酸、丙二酸、乙醇酸、葡萄糖酸、酒石酸、柠檬酸、苹果酸、乙酸或它们的盐、或者这些酸及这些盐的组合。

(发明4)

根据发明1~3中任一项所述的抛光液,其中,

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