[发明专利]掩模装置及其控制方法

说明书

本发明提供了一种掩模装置及其控制方法，属于显示技术领域。所述掩模装置包括：掩模板和控制器，掩模板包括多个掩模单元，控制器与每个掩模单元均连接，且每个掩模单元具有透光状态和遮光状态，控制器用于控制掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整掩模装置中的透光区域。本发明解决了掩模装置的工作效率较低的问题。本发明用于对形成显示面板的膜层进行掩模。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩模装置及其控制方法。

背景技术

随着科技的发展，液晶显示面板的应用越来越广泛。液晶显示面板通常包括：相对设置的两个显示基板，以及设置在两个显示基板之间的液晶，且每个显示基板中朝向液晶的一侧设置有配向膜。在制造液晶显示面板的过程中，需使用掩模装置对配向材质层进行配向，以得到该配向膜。

掩模装置包括：掩模板，以及设置在掩模板一侧的紫外灯组件。在使用掩模装置对配向材质层进行配向时，可以将配向材质层置于掩模板的另一侧，并控制紫外灯组件向掩模板发射紫外光，以使得紫外光穿过掩模板中的透光区域并到达配向材质层，以形成配向膜。

相关技术中，在制造不同尺寸的液晶显示面板时，由于不同尺寸的液晶显示面板中的配向膜的尺寸也不相同，因此需要使用不同的掩模板，而频繁更换掩模板需要耗费较多时间，导致掩模装置的工作效率较低。

发明内容

本申请提供了一种掩模装置及其控制方法，可以解决相关技术中掩模装置的工作效率较低的问题，所述技术方案如下：

一方面，提供了一种掩模装置，所述掩模装置包括：掩模板和控制器，所述掩模板包括多个掩模单元，所述控制器与每个所述掩模单元均连接，且每个所述掩模单元具有透光状态和遮光状态，所述控制器用于控制所述掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整所述掩模装置中的透光区域。

可选地，对每个所述掩模单元，所述掩模单元包括：透光承载结构，以及位于所述透光承载结构上的遮光液滴，所述透光承载结构具有亲水状态和疏水状态；所述控制器用于通过控制所述透光承载结构处于所述亲水状态，以控制所述掩模单元处于所述遮光状态，以及通过控制所述透光承载结构处于所述疏水状态，以控制所述掩模单元处于所述透光状态。

可选地，所述透光承载结构中靠近所述遮光液滴的一侧凸起。

可选地，所述掩模板还包括：相对设置的透光基底和透光保护层，以及位于所述透光基底和所述透光保护层之间的遮光网格结构，所述多个掩模单元均位于所述透光基底和所述透光保护层之间，所述遮光网格结构将所述透光基底划分为多个单元格，所述多个掩模单元与所述多个单元格一一对应，且每个掩模单元均位于其对应的单元格内。

可选地，所述每个掩模单元被所述透光基底、所述透光保护层和所述遮光网格结构密封。

可选地，所述掩模装置用于对形成显示面板的膜层进行掩模，所述掩模单元与所述显示面板中的亚像素单元的形状和大小均相同。

可选地，所述掩模装置还包括：与所述控制器连接且位于所述掩模板一侧的紫外灯组件，所述紫外灯组件能够向所述掩模板发射多种偏振方向的紫外偏振光，所述控制器还用于：

在多个掩模阶段中的每个掩模阶段，控制所述紫外灯组件向所述掩模板发射一种偏振方向的紫外偏振光，且所述紫外灯组件在所述多个掩模阶段中发射的紫外偏振光的偏振方向不同。

可选地，所述控制器还用于：

在每个所述掩模阶段，控制所述多个掩模单元中的至少一个掩模单元处于透光状态，以形成一组透光区域，并控制所述多个掩模单元中除所述至少一个掩模单元外的其他掩模单元均处于遮光状态，且在任意两个所述掩模阶段中形成的两组透光区域互不交叠。