[发明专利]管状反应器的补气装置

权利要求书

1.一种管状反应器的补气装置，其特征为：

包括至少一根补气管，所述补气管后端通入镀膜所需的工艺气体，补气管前端贯穿炉尾盖板伸入LPCVD管炉内，补气管前端面开有供工艺气体排出的出气孔。

2.根据权利要求1所述的管状反应器的补气装置，其特征是：

包括若干补气管，所有补气管伸入LPCVD管炉内距离都不同。

3.根据权利要求2所述的管状反应器的补气装置，其特征是：

包括四根补气管，分别是第一补气管、第二补气管、第三补气管和第四补气管，第一补气管前端为第一出气孔，第一出气孔距离炉尾盖板的长度等于LPCVD管炉内孔轴线长度的60％；第二补气管前端为第二出气孔，第二出气孔距离炉尾盖板的长度等于LPCVD管炉内孔轴线长度的50％；第三补气管前端为第三出气孔，第三出气孔距离炉尾盖板的长度等于LPCVD管炉内孔轴线长度的40％；第四补气管前端为第四出气孔，第四出气孔距离炉尾盖板的长度等于LPCVD管炉内孔轴线长度的30％。

4.根据权利要求3所述的管状反应器的补气装置，其特征是：

四根补气管后端分别与主管连通，主管端部与通入镀膜所需的工艺气体，通过主管向四根补气管供气。

5.根据权利要求3所述的管状反应器的补气装置，其特征是：

四根补气管后部分别设有流量控制阀。