[发明专利]具有制冷剂用的流路的部件及其控制方法和基片处理装置

权利要求书

1.一种具有制冷剂用的流路的部件，其特征在于，包括：

形成有所述流路的基座；和

设置在所述流路内的能够升降或旋转的突起状部件，

所述突起状部件配置在所述流路内的关于温度的异常点。

2.如权利要求1所述的具有制冷剂用的流路的部件，其特征在于：

在所述流路形成有供制冷剂流入的入口孔和供制冷剂流出的出口孔，

将所述入口孔和所述出口孔作为异常点，所述突起状部件配置在该异常点的附近。

3.如权利要求1或2所述的具有制冷剂用的流路的部件，其特征在于：

所述流路形成为涡旋状，

将制冷剂的流动方向发生变化的流路中央部作为异常点，所述突起状部件配置在该异常点或其附近。

4.如权利要求1或2所述的具有制冷剂用的流路的部件，其特征在于：

在所述流路形成有贯通孔，

将所述贯通孔作为异常点，所述突起状部件配置在该异常点的附近。

5.如权利要求1或2所述的具有制冷剂用的流路的部件，其特征在于：

所述突起状部件是螺钉或者整流板。

6.如权利要求1或2所述的具有制冷剂用的流路的部件，其特征在于：

包括静电吸盘，其与所述基座相邻设置，具有用于载置被处理体的载置面且静电吸附被处理体。

7.如权利要求1或2所述的具有制冷剂用的流路的部件，其特征在于：

包括与所述基座相邻设置的作为电极发挥作用的板状部件。

8.一种基片处理装置，其包括：配置在处理容器内的用于载置被处理体的载置台；与所述载置台相对配置的上部电极；和具有制冷剂用的流路的部件，该基片处理装置的特征在于，

所述具有制冷剂用的流路的部件包括：

形成有所述流路的基座；和

设置在所述流路内的能够升降或旋转的突起状部件，

所述具有制冷剂用的流路的部件设置在所述载置台和所述上部电极的至少任一者，

所述突起状部件配置在所述流路内的关于温度的异常点。

9.一种具有制冷剂用的流路的部件的控制方法，其特征在于，

所述具有制冷剂用的流路的部件包括：

形成有所述流路的基座；

设置在所述流路内的突起状部件；和

加热部件，

所述控制方法包括：

对所述流路供给规定温度的制冷剂的步骤；

对所述加热部件供给规定电力的步骤；和

根据对所述加热部件供给的电力，来控制所述突起状部件的升降或旋转的步骤，

所述突起状部件配置在所述流路内的关于温度的异常点。