[发明专利]一种降膜反应器

权利要求书

1.一种降膜反应器，包括反应器壳体，反应器壳体上部的侧壁开有进液口，反应器壳体内固定有上管板和下管板，上管板位于反应器壳体的上部且位于进液口的下方，下管板位于反应器壳体的下部；上管板上设有分液筒，上管板与下管板之间贯穿有多根导流管；其特征在于：分液筒下部的侧壁开有多个通孔；上管板的上方设有位于分液筒内的溢流板，分液筒与溢流板之间形成流道，导流管位于溢流板内，溢流板的顶部位于分液筒的上方，溢流板底部的高度低于导流管上部的高度；导流管的上部内设有使液体均匀分布在导流管内壁的降膜装置。

2.根据权利要求1所述的一种降膜反应器，其特征在于：分液筒顶部的周向开有多个锯齿型槽。

3.根据权利要求1或2所述的一种降膜反应器，其特征在于：降膜装置包括降膜反应头，降膜反应头的上部呈管状，下部呈开口面积从上到下逐渐增大的喇叭状；降膜反应头的底部与导流管内壁之间形成用于生成液膜的间隙；降膜反应头的侧壁上固定有至少两个沿周向均匀分布的L形限位块，降膜反应头的侧壁上固定有至少两个能与导流管内壁接触的中心定位块，中心定位块位于L形限位块的下方且沿降膜反应头的侧壁均匀分布；中心定位块远离降膜反应头的一侧设置为弧形。

4.根据权利要求3所述的一种降膜反应器，其特征在于：降膜反应头底部与导流管内壁之间的间隙宽度设置为0.4-0.8mm。

5.根据权利要求3所述的一种降膜反应器，其特征在于：L形限位块和中心定位块均设有两个，俯视观察，L形限位块和中心定位块分别位于降膜反应头前后左右四个方向。

6.根据权利要求3所述的一种降膜反应器，其特征在于：流道的宽度设置为15-30mm。

7.根据权利要求3所述的一种降膜反应器，其特征在于：多根导流管均匀的分布在上管板上，上管板上预留有便于液体从四周流向上管板中心的液体通道，液体通道的一端均与溢流板相对。